特許
J-GLOBAL ID：200903053924918960
光触媒含有塗膜の形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小島 隆司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-303555
公開番号（公開出願番号）：特開平11-114488
出願日： 1997年10月17日
公開日（公表日）： 1999年04月27日
要約：
【要約】【解決手段】 基材上に、下記平均組成式(1) R<SP>1</SP><SB>p</SB>Si(OR<SP>2</SP>)<SB>q</SB>O<SB>(4-p-q)/2 </SB> ...(1)(式中、R<SP>1</SP>は非置換又は置換一価炭化水素基、R<SP>2</SP>は水素原子、炭素数1〜6の非置換一価炭化水素基及び炭素数1〜6のアルコキシ置換一価炭化水素基から選ばれ、p,qは、0≦p≦1.6、0<q≦3.3、0.1≦p+q<4を満足する数である。)で表され、かつ重量平均分子量900未満のシリコーン樹脂を含む塗料の硬化層を形成し、その上に光触媒を含有する塗膜層を形成することを特徴とする光触媒含有塗膜の形成方法。【効果】 本発明による光触媒含有塗膜は、高硬度、耐擦傷性を有し、密着性に優れたものである。
請求項（抜粋）：
基材上に、下記平均組成式(1) R<SP>1</SP><SB>p</SB>Si(OR<SP>2</SP>)<SB>q</SB>O<SB>(4-p-q)/2 </SB> ...(1)(式中、R<SP>1</SP>は非置換又は置換一価炭化水素基、R<SP>2</SP>は水素原子、炭素数1〜6の非置換一価炭化水素基及び炭素数1〜6のアルコキシ置換一価炭化水素基から選ばれ、p,qは、0≦p≦1.6、0<q≦3.3、0.1≦p+q<4を満足する数である。)で表され、かつ重量平均分子量900未満のシリコーン樹脂を含む塗料の硬化層を形成し、その上に光触媒を含有する塗膜層を形成することを特徴とする光触媒含有塗膜の形成方法。
IPC (4件)：
B05D 5/00
, C09D 5/14
, C09D 7/12
, C09D183/04
B05D 5/00 H
, C09D 5/14
, C09D 7/12 Z
, C09D183/04
