特許

J-GLOBAL ID：200903053945233399

合成石英ガラスの製造方法

発明者： 河野 充 ,  鍬先 尚哉 ,  中村 邦彦 ,  竹内 哲彦
出願人/特許権者： 新日本製鐵株式会社 ,  新日鐵化学株式会社 ,  セイコーエプソン株式会社
代理人 (1件)： 細井 勇
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-089108
公開番号（公開出願番号）：特開平7-277744
出願日： 1994年04月04日
公開日（公表日）： 1995年10月24日
要約：

【要約】 (修正有)【構成】 シリコンアルコキシド及びシリカ微粒子を主原料としてゾル-ゲル法によりゲルを得、これを乾燥、加熱処理して合成石英ガラスを製造する方法において、200°Cから1300°C未満までの加熱処理の少なくとも一部を分子状酸素含有ガスの雰囲気下で行い、更に昇温して1700°C以上の温度まで行う加熱処理の少なくとも一部を分子状水素含有ガスの雰囲気下で行い、且つ前記分子状酸素含有ガスの雰囲気下で行う加熱処理と分子状水素含有ガスの雰囲気下で行う加熱処理の間に1Torr以下の減圧下で行う加熱処理工程を設けることを特徴とする合成石英ガラスの製造方法。【効果】 ガラスの気泡の発生や構造欠陥の発生を抑制した合成石英ガラスを得ることができる。この合成石英ガラスは特に、紫外線レーザ光を透過する光学部材として優れる。

請求項（抜粋）：

シリコンアルコキシド及びシリカ微粒子を主原料としてゾル-ゲル法によりゲルを得、これを乾燥、加熱処理して合成石英ガラスを製造する方法において、200°Cから1300°C未満までの加熱処理の少なくとも一部を分子状酸素含有ガスの雰囲気下で行い、更に昇温して1700°C以上の温度まで行う加熱処理の少なくとも一部を分子状水素含有ガスの雰囲気下で行い、且つ前記分子状酸素含有ガスの雰囲気下で行う加熱処理と分子状水素含有ガスの雰囲気下で行う加熱処理の間に1Torr以下の減圧下で行う加熱処理工程を設けることを特徴とする合成石英ガラスの製造方法。

IPC (5件)：

C03B 8/02 ,  C01B 33/14 ,  C03B 19/12 ,  C03B 20/00 ,  H01S 3/17

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 特開平3-174333
  
• 特開平3-093636
  
• 石英ガラスの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-356663   出願人：新日鐵化学株式会社, セイコーエプソン株式会社
• ガラスの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-319270   出願人：セイコーエプソン株式会社

審査官引用 (2件)

• 特開平3-174333
  
• 特開平3-093636