特許
J-GLOBAL ID:200903054004638598

膜ろ過装置及びその運転方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 川合 誠 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-346605
公開番号(公開出願番号):特開平11-169854
出願日: 1997年12月16日
公開日(公表日): 1999年06月29日
要約:
【要約】【課題】膜面の全体を洗浄することができ、良好な運転を長期間継続して行うことができるようにする。【解決手段】処理槽31と、該処理槽31に浸漬(せき)され、平膜状の膜エレメントを積層することによって形成された膜ユニット50と、該膜ユニット50の底部に配設された筒状のスカート部71と、該スカート部71の下方に配設され、気体を噴射するばっ気装置61と、前記膜ユニット50の底部に配設され、前記スカート部71内において該スカート部71との間に区画室74〜76を形成する仕切り72、73と、前記区画室74〜76に気体を供給する気体供給手段とを有する。前記気体供給手段によって各区画室74〜76に気体が供給されるので、各膜間における膜ユニット50の両側縁部を流れる気泡の量を多くすることができる。膜面52の全体を洗浄することができる。
請求項(抜粋):
(a)処理槽と、(b)該処理槽に浸漬され、平膜状の膜エレメントを積層することによって形成された膜ユニットと、(c)該膜ユニットの底部に配設された筒状のスカート部と、(d)該スカート部の下方に配設され、気体を噴射するばっ気装置と、(e)前記膜ユニットの底部に配設され、前記スカート部内において該スカート部との間に区画室を形成する仕切りと、(f)前記区画室に気体を供給する気体供給手段とを有することを特徴とする膜ろ過装置。
IPC (3件):
C02F 1/44 ZAB ,  B01D 63/08 ,  B01D 65/02 520
FI (3件):
C02F 1/44 ZAB K ,  B01D 63/08 ,  B01D 65/02 520
引用特許:
出願人引用 (2件)
  • 特開平4-334530
  • 浸漬型膜分離装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平7-114094   出願人:栗田工業株式会社
審査官引用 (5件)
  • 特開平4-334530
  • 特開平4-334530
  • 特開平4-334530
全件表示

前のページに戻る