特許
J-GLOBAL ID:200903054008535106

シリカ系被膜形成用塗布液および被膜付基材

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 鈴木 俊一郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-079008
公開番号(公開出願番号):特開平8-269399
出願日: 1995年04月04日
公開日(公表日): 1996年10月15日
要約:
【要約】【構成】 特定の繰り返し単位を有し、低分子量成分の少ないポリシラザン(ゲルクロマトグラフィー法で測定されたポリスチレン換算分子量700以下のポリシラザン量が、ゲルクロマトグラムピーク面積比で全ポリシラザン量の10%以下)を含有するシリカ系被膜形成用塗布液、および該塗布液を用いて形成されたシリカ系被膜を有する被膜付基材。【効果】 上記塗布液を基材上に塗布して得られた塗膜を乾燥・焼成すると、乾燥装置または焼成装置の内部を汚染したり、基材表面に微粒子状の異物が多量に付着することなく、被塗布面の凹凸が高度に平坦化された被膜付基材が得られる。
請求項(抜粋):
下記一般式[I]【化1】(式中、R1 、R2 およびR3 は、それぞれ独立して水素原子、炭素原子数1〜8のアルキル基およびアルコキシ基、ならびにアリル基から選ばれる基である。)で表わされる繰り返し単位を有し、ゲルクロマトグラフィー法で測定されたポリスチレン換算分子量700以下のポリシラザン量が、ゲルクロマトグラムピーク面積比で全ポリシラザン量の10%以下であるポリシラザンを含有することを特徴とするシリカ系被膜形成用塗布液。
引用特許:
審査官引用 (4件)
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