特許
J-GLOBAL ID：200903054015429591

処理液供給装置及び処理液供給方法

発明者：
稲田 博一

稲田 博一 について

, 
大隈 博文

大隈 博文 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 金本 哲男 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-306306
公開番号（公開出願番号）：特開2002-198304
出願日： 2001年10月02日
公開日（公表日）： 2002年07月12日
要約：
【要約】【課題】 レジスト液がウェハ上の所定位置に正確に供給されるようにレジスト液供給ノズルの位置を容易に微調整可能にする。【解決手段】 レジスト液供給ノズル66aを保持しウェハW上に搬送する搬送装置67を,X方向に伸びるレール80上を移動自在に設ける。搬送装置67の垂直アーム部78には,シリンダを設け,Z方向に伸縮自在にする。水平アーム部79には,駆動ベルト81を設け,この駆動ベルト81によって,ノズル保持部材75をY方向に移動自在にする。かかる構成により,ノズル保持部材75に保持されたレジスト液供給ノズル66aは,三次元に移動自在となり,レジスト液の供給位置の微調整を厳格かつ容易に行うことができる。
請求項（抜粋）：
所定の処理位置に配置された基板に処理液を供給する処理液供給ノズルを有する処理液供給装置であって,前記処理液供給ノズルを保持自在なノズル保持手段を有し,前記処理液供給ノズルは,所定の待機位置に配置されており,前記ノズル保持手段は,三次元移動自在に構成されていることを特徴とする,処理液供給装置。
IPC (6件)：
H01L 21/027 ,  B05C 5/00 101 ,  B05C 11/00 ,  B05D 1/26 ,  B05D 3/00 ,  G03F 7/30 501
FI (7件)：
B05C 5/00 101 ,  B05C 11/00 ,  B05D 1/26 Z ,  B05D 3/00 B ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/30 564 C ,  H01L 21/30 569 C
Fターム (29件)：
2H096AA25 ,  2H096GA26 ,  4D075AC06 ,  4D075AC09 ,  4D075AC64 ,  4D075AC84 ,  4D075AC88 ,  4D075AC93 ,  4D075CA47 ,  4D075DA08 ,  4D075DC22 ,  4D075EA07 ,  4D075EA45 ,  4F041AA02 ,  4F041AA06 ,  4F041AB02 ,  4F041BA05 ,  4F041BA13 ,  4F041BA22 ,  4F042AA02 ,  4F042AA07 ,  4F042BA08 ,  4F042BA22 ,  4F042EB18 ,  4F042EB29 ,  5F046JA01 ,  5F046JA02 ,  5F046LA03 ,  5F046LA04
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

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