プラズマ処理装置

発明者： , , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：伊東忠彦
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2004016252
公開番号（公開出願番号）：WO2005-045913
出願日： 2004年11月02日
公開日（公表日）： 2005年05月19日
要約：

本発明は、プラズマ処理装置の処理ガス供給部の冷却効率を向上させ、当該処理ガス供給部の温度上昇を抑制することを課題としている。そのため、本発明では、被処理基板を保持する保持台を備えた処理容器と、前記処理容器上に、被処理基板に対面するように設けられたマイクロ波アンテナと、前記保持台上の被処理基板と前記マイクロ波アンテナとの間に、前記被処理基板に対面するように設けられた処理ガス供給部とを備えたプラズマ処理装置であって、前記処理ガス供給部は、前記処理容器内に形成されたプラズマを通過させる複数の第1の開口部と、処理ガス源に接続可能な処理ガス通路と、前記処理ガス通路に連通した複数の第2の開口部と、当該処理ガス供給部を冷却する冷却媒体が流れる冷却媒体通路を備え、前記冷却媒体はミストを含むことを特徴とするプラズマ処理装置を用いている。

請求項（抜粋）：

被処理基板を保持する保持台を備えた処理容器と、前記処理容器上に、被処理基板に対面するように設けられたマイクロ波アンテナと、前記保持台上の被処理基板と前記マイクロ波アンテナとの間に、前記被処理基板に対面するように設けられた処理ガス供給部とを備えたプラズマ処理装置であって、前記処理ガス供給部は、前記処理容器内に形成されたプラズマを通過させる複数の第1の開口部と、処理ガス源に接続可能な処理ガス通路と、前記処理ガス通路に連通した複数の第2の開口部と、当該処理ガス供給部を冷却する冷却媒体が流れる冷却媒体通路を備え、前記冷却媒体は冷却ガスとミストを含むことを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (3件)：

H05H 1/46 , H01L 21/205 , C23C 16/455

FI (3件)：

H05H1/46 B , H01L21/205 , C23C16/455

Fターム (22件)：

4K030CA04 , 4K030DA06 , 4K030EA05 , 4K030FA01 , 4K030JA05 , 4K030JA09 , 4K030JA10 , 4K030KA26 , 4K030KA30 , 4K030KA41 , 4K030LA15 , 4K030LA18 , 5F045AA09 , 5F045AB40 , 5F045AC02 , 5F045AC16 , 5F045AD07 , 5F045DP03 , 5F045DQ10 , 5F045EE01 , 5F045EF01 , 5F045EJ01

引用特許：

出願人引用 (1件)

プラズマ処理装置
公報種別：再公表公報出願番号：JP2002003108 出願人：大見忠弘, 東京エレクトロン株式会社

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