特許
J-GLOBAL ID:200903054029088657

薄膜製造装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 後藤 洋介 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-121305
公開番号(公開出願番号):特開平9-306971
出願日: 1996年05月16日
公開日(公表日): 1997年11月28日
要約:
【要約】【課題】 高速で複数の成膜処理を可能とする薄膜製造装置を提供すること。【解決手段】 被処理材の移し替えを行うためのハンドリング装置を備えたハンドリング室20、70を備え、これらのハンドリング室の間には前記被処理材を室の一端と他端との間で往復移動させる搬送部を備えた搬送室40を設け、該搬送室に隣接して成膜室60を設け、前記ハンドリング室のそれぞれには更に、前記被処理材を出し入れするための入口室10、75及び出口室15、80の少なくとも一方を連結した。
請求項(抜粋):
被処理材の移し替えを行うためのハンドリング装置を備えたハンドリング室を少なくとも2室備え、これらのハンドリング室の間には前記被処理材を室の一端と他端との間で往復移動させる搬送部を備えた搬送室を設け、該搬送室に隣接して成膜室を設け、前記ハンドリング室のそれぞれには更に、前記被処理材を出し入れするための入口室及び出口室の少なくとも一方を連結したことを特徴とする薄膜製造装置。
IPC (2件):
H01L 21/68 ,  H05H 1/46
FI (2件):
H01L 21/68 A ,  H05H 1/46 A
引用特許:
審査官引用 (1件)
  • 処理装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平7-231918   出願人:東京エレクトロン株式会社

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