特許
J-GLOBAL ID:200903054095010316
形状検査装置及び半導体装置の製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
外川 英明
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-343733
公開番号(公開出願番号):特開2005-106754
出願日: 2003年10月01日
公開日(公表日): 2005年04月21日
要約:
【課題】 精度良く形状や寸法を検査すること。【解決手段】 検査対象物の全面または一部を含む領域に第1の波長の光を照射する手段12・14と、前記領域に前記第1の波長の光を照射して発生する回折光を取得し、領域内の各位置に対応する光強度データから構成される画像データを取得する手段16・18と、前記領域に第2の波長の光を照射する手段12・14と、前記領域について同様に画像データを取得する手段16・18とを備え、一方で複数のパターン形状に対して前記複数の波長に対して理論上得られる回折光強度を記憶しておき、領域内の検査対象位置における光強度データ波形(波長パラメータ)と、記憶されている回折光強度波形とをパターンマッチングして最適形状を検査対象位置における形状と推定する。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
被検査物の全面または一部の領域に第1の波長の光を照射する手段と、
前記領域に前記第1の波長の光を照射して発生する回折光を受光し、前記領域の各点に
対応する光強度データから構成される第1の画像データを取得する手段と、
前記領域に第2の波長の光を照射する手段と、
前記領域に前記第2の波長の光を照射して発生する回折光を受光し、前記領域の各点に
対応する光強度データから構成される第2の画像データを取得する手段と、
第1の所定形状に前記第1の波長の光を照射して得られる回折光の強度の情報ならびに
前記第1の所定形状に前記第2の波長の光を照射して得られる回折光の強度の情報を少な
くとも備える第1のデータ、
第2の所定形状に前記第1の波長の光を照射して得られる回折光の強度の情報ならびに
前記第2の所定形状に前記第2の波長の光を照射して得られる回折光の強度の情報を少な
くとも備える第2のデータ、
前記第1の画像データのうち、前記領域の検査対象点に対応する光強度データ、及び
前記第2の画像データのうち、前記検査対象点に対応する光強度データ
を用いて少なくともこの検査対象点の形状を検査する手段とを備えることを特徴とする
形状検査装置。
IPC (2件):
FI (3件):
G01B11/24 K
, H01L21/66 J
, G01B11/24 D
Fターム (22件):
2F065AA54
, 2F065CC19
, 2F065DD06
, 2F065FF48
, 2F065GG03
, 2F065GG23
, 2F065HH03
, 2F065HH09
, 2F065JJ03
, 2F065JJ26
, 2F065LL11
, 2F065LL22
, 2F065PP05
, 2F065QQ38
, 2F065RR05
, 4M106AA01
, 4M106AA02
, 4M106BA04
, 4M106CA39
, 4M106DB02
, 4M106DB07
, 4M106DJ17
引用特許: