特許

J-GLOBAL ID：200903054132536650

電子材料用洗浄水

発明者： 森田 博志 ,  井田 純一 ,  水庭 哲夫
出願人/特許権者： 栗田工業株式会社
代理人 (1件)： 内山 充
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-353403
公開番号（公開出願番号）：特開平11-181493
出願日： 1997年12月22日
公開日（公表日）： 1999年07月06日
要約：

【要約】【課題】電子材料の表面から不純物、特に微粒子を取り除くウェット洗浄において、低濃度の薬剤溶解量で、室温において、効果的に洗浄を行うことができ、省資源、環境保全の効果が大きく、かつ量産工場でも採用しやすい電子材料用洗浄水を提供する。【解決手段】大気飽和濃度より高濃度に酸素ガスを溶解し、かつアンモニア0.1〜10,000mg/リットルと過酸化水素0.1〜10,000mg/リットルを含有することを特徴とする電子材料用洗浄水。

請求項（抜粋）：

大気飽和濃度より高濃度に酸素ガスを溶解し、かつアンモニア0.1〜10,000mg/リットルと過酸化水素0.1〜10,000mg/リットルを含有することを特徴とする電子材料用洗浄水。

IPC (4件)：

C11D 7/60 ,  B08B 3/08 ,  C11D 7/18 ,  H01L 21/304 647

FI (4件)：

C11D 7/60 ,  B08B 3/08 Z ,  C11D 7/18 ,  H01L 21/304 647 A

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 電子材料用洗浄水
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-326566   出願人：栗田工業株式会社