特許

J-GLOBAL ID：200903054147425803

偏波保持光ファイバカプラの製造方法

発明者： 佐々木 秀樹 ,  山内 良三 ,  日高 啓▲視▼ ,  西出 研二 ,  山崎 成史 ,  松本 亮吉 ,  鈴木 洋二
出願人/特許権者： 株式会社フジクラ
代理人 (1件)： 志賀 正武 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-089814
公開番号（公開出願番号）：特開2001-051150
出願日： 2000年03月28日
公開日（公表日）： 2001年02月23日
要約：

【要約】【課題】 従来よりも延伸長が短く、結合度の偏波依存性が大きい偏波保持光ファイバカプラを得る。【解決手段】 2本の偏波保持光ファイバを並列させ、その長さ方向の一部を加熱し、この長さ方向に延伸して融着延伸部を形成する偏波保持光ファイバカプラの製造方法において、使用波長において、延伸長に伴う2つの偏波の結合度の変化の周期が、いずれも2周期以内の時点で延伸を終了し、一方の偏波の結合度が10%以下で、他方の偏波の結合度が90%以上の偏波保持光ファイバカプラを製造することを特徴とする偏波保持光ファイバカプラを製造する。

請求項（抜粋）：

2本の偏波保持光ファイバを並列させ、その長さ方向の一部を加熱し、この長さ方向に延伸して融着延伸部を形成する偏波保持光ファイバカプラの製造方法において、使用波長において、延伸長に伴う2つの偏波の結合度の変化の周期が、いずれも2周期以内の時点で延伸を終了し、一方の偏波の結合度が10%以下で、他方の偏波の結合度が90%以上の偏波保持光ファイバカプラを製造することを特徴とする偏波保持光ファイバカプラの製造方法。

IPC (2件)：

G02B 6/287 ,  G02B 6/17

FI (2件)：

G02B 6/28 A ,  G02B 6/16 311

Fターム (5件)：

2H050AA02 ,  2H050AB03Z ,  2H050AB05X ,  2H050AC44 ,  2H050AC83

引用特許：

審査官引用 (3件)

• ファイバ融着延伸型偏波ビームスプリッタ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-303594   出願人：日本航空電子工業株式会社
• 特開平4-107511
  
• 融着延伸光ファイバカプラ型偏波分離・合波素子
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-150270   出願人：株式会社フジクラ