特許
J-GLOBAL ID：200903054170610197

ワークピースの処理装置および処理方法

発明者：
ベーレ,シュテファン

ベーレ,シュテファン について

, 
リュットリングハウス-ヘンケル,アンドレアス

リュットリングハウス-ヘンケル,アンドレアス について

, 
アーノルド,グレゴール

アーノルド,グレゴール について

, 
ビッカー,マチアス

ビッカー,マチアス について

, 
クライン,ユルゲン

クライン,ユルゲン について


出願人/特許権者：
ショット アーゲー

ショット アーゲー について


代理人 (11件)： 岡部 正夫 ,  加藤 伸晃 ,  産形 和央 ,  岡部 讓 ,  臼井 伸一 ,  藤野 育男 ,  越智 隆夫 ,  本宮 照久 ,  高梨 憲通 ,  小林 恒夫 ,  齋藤 正巳
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-507557
公開番号（公開出願番号）：特表2005-531688
出願日： 2003年05月26日
公開日（公表日）： 2005年10月20日
要約：
本発明は、中空体のコーティング、特にPICVDでプラスチック製飲料用ボトルの内部をコーティングする装置および方法に関する。 本発明の目的は、柔軟なプロセスシーケンス、高処理量、改善された流体供給、および高品質のコーティングを保証することである。 本発明は具体的には、それぞれ少なくとも1つのワークピースを受容する2つの反応器を有する処理デバイス、流体供給装置、および流体の処理デバイスへの供給を制御するのに使用することができる少なくとも1つの流体制御デバイスを含む回転装置を提案する。真空ポンプをローター上に配置して真空ポンプがローターと共に回転するようにすることが好ましい。
請求項（抜粋）：
ワークピース、特に中空体ワークピースの処理装置(30)であって、 少なくとも1つのワークピースを受容する少なくとも1つの処理デバイス(101); 該処理デバイスに流体を供給する流体供給装置(80);および 該処理デバイス(101)への流体の供給を制御するために使用することができる少なくとも1つの流体制御デバイス(40)を有する処理装置(30)。
IPC (2件)：
C23C16/455 ,  B65D23/02
FI (2件)：
C23C16/455 ,  B65D23/02 Z
Fターム (16件)：
3E062AA09 ,  3E062AC02 ,  3E062JA01 ,  3E062JA07 ,  3E062JB22 ,  3E062JC01 ,  3E062JD01 ,  4K030AA01 ,  4K030BA44 ,  4K030BB13 ,  4K030CA07 ,  4K030CA15 ,  4K030FA01 ,  4K030HA01 ,  4K030KA41 ,  4K030LA24
引用特許：
出願人引用 (2件)
  • WO00/58631
  • 独国特許DE10258681.0号
審査官引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM