特許

J-GLOBAL ID：200903054205129713

微細構造体およびその製造方法

発明者： 冨田 忠文 ,  堀田 吉則 ,  上杉 彰男
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (3件)： 渡辺 望稔 ,  三和 晴子 ,  福島 弘薫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-271609
公開番号（公開出願番号）：特開2006-083451
出願日： 2004年09月17日
公開日（公表日）： 2006年03月30日
要約：

【課題】信号強度が十分に大きく、かつ、再現性に優れた局在プラズモン共鳴を発生させる構造体およびその製造方法の提供。 【解決手段】複数の金属粒子が表面に存在する構造体の製造方法であって、多孔質層とバリヤー層とからなる陽極酸化皮膜を一方の表面に有するアルミニウム基板を、前記陽極酸化皮膜が形成された前記表面と反対側の表面から、前記バリヤー層が露出するまで溶解させる溶解工程と、前記溶解工程の後、露出した前記バリヤー層の表面の凹部に、金属粒子を配置させて前記構造体を得る金属粒子配置工程とを具備する、構造体の製造方法、および、それにより得られる構造体。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

複数の金属粒子が表面に存在する構造体の製造方法であって、 多孔質層とバリヤー層とからなる陽極酸化皮膜を一方の表面に有するアルミニウム基板を、前記陽極酸化皮膜が形成された前記表面と反対側の表面から、前記バリヤー層が露出するまで溶解させる溶解工程と、 前記溶解工程の後、露出した前記バリヤー層の表面の凹部に、金属粒子を配置させて前記構造体を得る金属粒子配置工程と を具備する、構造体の製造方法。

IPC (2件)：

C25D 11/04 ,  G01N 21/65

FI (3件)：

C25D11/04 E ,  C25D11/04 303 ,  G01N21/65

Fターム (10件)：

2G043AA01 ,  2G043BA16 ,  2G043CA03 ,  2G043EA03 ,  2G043GA07 ,  2G043GB02 ,  2G043GB05 ,  2G043GB16 ,  2G043KA02 ,  2G043KA05

引用特許：

出願人引用 (2件)

• ナノ構造体とその製造方法、電子放出素子及びカ-ボンナノチュ-ブデバイスの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-047540   出願人：キヤノン株式会社
• 構造体及び構造体の製造方法並びにこれを用いたセンサ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-001294   出願人：富士写真フイルム株式会社