特許
J-GLOBAL ID:200903054240790848

洗浄除去剤及び洗浄方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 藤川 忠司
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-199274
公開番号(公開出願番号):特開2002-012896
出願日: 2000年06月30日
公開日(公表日): 2002年01月15日
要約:
【要約】【課題】 各種電子部品や機械部品等の半田付け後に部品表面に固着した半田フラックス残渣及び油脂の如き有機質の汚れを確実に除去できる洗浄除去剤を提供する。【解決手段】 3-メトキシ・3-メチル・1-ブタノールと、N-メチル・2-ピロリドンとを必須成分、ベンゾトリアゾール等の腐食防止剤を任意成分として含む。
請求項(抜粋):
a)3-メトキシ・3-メチル・1-ブタノールと、b)N-メチル・2-ピロリドンとを必須成分として含有する洗浄除去剤。
IPC (4件):
C11D 7/50 ,  C11D 7/26 ,  C11D 7/32 ,  C11D 7/34
FI (4件):
C11D 7/50 ,  C11D 7/26 ,  C11D 7/32 ,  C11D 7/34
Fターム (14件):
4H003BA12 ,  4H003DA14 ,  4H003DA15 ,  4H003DB02 ,  4H003EB08 ,  4H003EB13 ,  4H003EB20 ,  4H003EB21 ,  4H003ED29 ,  4H003ED31 ,  4H003ED32 ,  4H003FA01 ,  4H003FA15 ,  4H003FA28
引用特許:
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (8件)
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