特許

J-GLOBAL ID：200903054243211024

蒸気加硫装置

発明者： 土岩 仙明
出願人/特許権者： 株式会社テイエルブイ
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-243213
公開番号（公開出願番号）：特開2003-053737
出願日： 2001年08月10日
公開日（公表日）： 2003年02月26日
要約：

【要約】【課題】 容器の大きさや形状に係わらず、容器の全体に且つ均一に蒸気を供給して、未加硫物の全体を均一に加硫することのできる蒸気加硫装置を得ること【解決手段】 密閉状の加硫缶1の内部に、開閉弁9,10,11,12を介して複数の蒸気供給管3,4,5,6を配置する。加硫缶1に圧縮空気供給管7を接続する。加硫缶1内に所定圧力の蒸気と圧縮空気を供給することによって、それぞれの分圧に応じた任意の圧力と温度で加硫を行う。加硫缶1内に供給する蒸気流れを、開閉弁9,10,11,12の開閉を制御することによって任意にコントロールすることができ、加硫缶1内の温度分布を均一にすることができる。

請求項（抜粋）：

ゴムの未加硫物を密閉状容器内に配置し、当該容器内に蒸気を供給して未加硫物を加硫するものにおいて、密閉状容器に蒸気を供給する蒸気供給管を容器内に複数本配設し、当該複数の蒸気供給管に開閉弁を介して蒸気源と接続して、当該開閉弁を任意に開閉することにより蒸気供給管から順次に密閉状容器内へ蒸気を供給することによって、容器内の流体の対流を促進させることを特徴とする蒸気加硫装置。

IPC (3件)：

B29C 35/04 ,  B29K 21:00 ,  B29K105:24

FI (3件)：

B29C 35/04 ,  B29K 21:00 ,  B29K105:24

Fターム (10件)：

4F203AA45 ,  4F203AK01 ,  4F203DA11 ,  4F203DC04 ,  4F203DD01 ,  4F203DK01 ,  4F203DK07 ,  4F203DL14 ,  4F203DM02 ,  4F203DM23

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 蒸気加硫装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-213374   出願人：株式会社テイエルブイ
• 特開昭57-117943
  
• 特開平4-052107
  
• 特開昭63-037905