特許
J-GLOBAL ID：200903054335236821
効果的にめっき付着を行うコロイド処理噴霧方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
安形 雄三 (外2名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-591244
公開番号（公開出願番号）：特表2002-533576
出願日： 1999年12月08日
公開日（公表日）： 2002年10月08日
要約：
【要約】密又は多孔質の物質の被膜は、コロイド縣濁液を圧入して超音波の噴霧器を通し、充分に熱した基板上に担体媒体中の粒子の微細なミストを噴霧することによって、基板上にメッキされる。このスプレー率は基本的に基板の表面上に均一に分散する被膜を形成するにあたって担体液の基板からの蒸発率に相当している。その後、充分な被膜厚で付着させるにあたって、密なセラミック被膜を形成するために単一の焼結ステップが用いられる場合がある。この方法を用いて一から幾百ミクロンの被膜範囲を得ることが可能である。複数の化合物をコロイド縣濁液に用いることによって、混合した混合物を得ることができる。複数の溶液と、分離したポンプと、単一又は複数の超音波の噴霧器と、個々のポンプ率及び/又は溶液の濃度を変化させることとによって、混合物の被覆や不連続な段階(例えば階段状)又は連続した段階の層を得ることができる。この方法はセラミック被膜を付着させる方法として特に有効である。多孔性の基板状の密なセラミック被膜物質は電極性能を向上させる点で高出力密度の固体酸化燃料電池のような装置に有効である。本発明によって得られる密なセラミック被膜はガスタービンブレード被膜、センサ、蒸気電気分解等を向上させるために有効である。本発明は、耐久性及び耐薬品性又はその他の特定の化学的又は物理的な性質を要求されるシステムの準備において一般的な用途を有する。
請求項（抜粋）：
薄い被膜物質を基板上に施す方法であって、前記方法が、(1)セラミック物質の粒子を縣濁する溶媒をコロイド縣濁液の形態とするステップと、(2)基板を加熱することで加熱基板をつくるステップと、(3)前記加熱基板上に前記粒子を拡散して前記基板上に粒子層を付着させるステップと、(4)ステップ(3)において付着された前記粒子層を焼結するステップとから構成されることを特徴とする方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C23C 26/00 C
, H01M 4/88 T
4K044AA13
, 4K044AB02
, 4K044BA12
, 4K044BA18
, 4K044BA19
, 4K044BB01
, 4K044BB03
, 4K044BB13
, 4K044CA53
, 4K044CA62
, 5H018AA01
, 5H018AS01
, 5H018AS07
, 5H018BB00
, 5H018BB01
, 5H018BB08
, 5H018BB12
, 5H018DD08
, 5H018DD10
, 5H018EE02
, 5H018EE11
, 5H018EE12
, 5H018EE13
, 5H018HH01
, 5H018HH03
, 5H018HH08
