特許
J-GLOBAL ID:200903054417594521
窒化物半導体レーザ素子
発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-106873
公開番号(公開出願番号):特開平10-303493
出願日: 1997年04月24日
公開日(公表日): 1998年11月13日
要約:
【要約】【目的】 窒化物半導体を用いたレーザ光源の寿命を向上させる。【構成】 レーザ素子のゲインを得る媒質の距離を100μm以下とすると、ゲインが飽和しない。そのため、例えば共振器長を100μm以下とするファブリ・ペロー型のInGaNを活性層とするダブルへテロ構造のレーザ素子では、出力が大幅に向上し、さらに寿命も長くなる。
請求項(抜粋):
窒化物半導体を用いたレーザ素子であって、レーザ素子のゲインを得る媒質の距離が100μm以下であることを特徴とする窒化物半導体レーザ素子。
引用特許:
審査官引用 (5件)
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半導体レーザ
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-025069
出願人:株式会社日立製作所
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半導体レーザ
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-273877
出願人:三菱電線工業株式会社
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半導体レーザ装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-082869
出願人:株式会社日立製作所
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窒化物半導体レーザ素子
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-317847
出願人:日亜化学工業株式会社
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特開平1-194377
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