特許

J-GLOBAL ID：200903054490468410

磁石の製造方法

発明者： 山本 智実 ,  内山 良太 ,  西沢 剛一 ,  石坂 力
出願人/特許権者： ティーディーケイ株式会社
代理人 (1件)： 前田 均 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-202402
公開番号（公開出願番号）：特開2003-017349
出願日： 2001年07月03日
公開日（公表日）： 2003年01月17日
要約：

【要約】【課題】 磁気特性の損失が少なく、耐食性や接着性に優れ、磁石周辺を汚染するおそれが少ない保護被膜を有する磁石を安価に製造できる磁石の製造方法を提供すること。【解決手段】 希土類元素を含む磁石本体の表面にポリシラザン被膜を形成する工程と、前記ポリシラザン被膜からガラス状保護被膜を得る工程とを有する磁石の製造方法。

請求項（抜粋）：

希土類元素を含む磁石本体の表面にポリシラザン被膜を形成する工程と、前記ポリシラザン被膜からガラス状保護被膜を得る工程とを有する磁石の製造方法。

IPC (3件)：

H01F 41/02 ,  C23C 18/12 ,  C22C 38/00 303

FI (3件)：

H01F 41/02 G ,  C23C 18/12 ,  C22C 38/00 303 D

Fターム (12件)：

4K022AA02 ,  4K022AA37 ,  4K022AA44 ,  4K022BA15 ,  4K022BA20 ,  4K022BA33 ,  4K022DA06 ,  4K022DA09 ,  4K022EA01 ,  5E062CD04 ,  5E062CG03 ,  5E062CG07

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平4-068506
  
• SiO2系セラミックス膜の形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-000175   出願人：東燃株式会社
• ポリシラザン溶液の塗工方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-086818   出願人：東燃株式会社