特許

J-GLOBAL ID：200903054496204946

光学素子及びその製造方法

発明者： 加賀 嗣朗
出願人/特許権者： 日本真空光学株式会社
代理人 (2件)： 柳川 泰男 ,  松島 一夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-129881
公開番号（公開出願番号）：特開2009-276691
出願日： 2008年05月16日
公開日（公表日）： 2009年11月26日
要約：

【課題】気密容器にはんだ付けが可能な光学素子を、極めて容易に製造する方法を提供すること。【解決手段】下記の工程からなる、透光性基板の表面に周囲が金属膜で囲まれた光学フィルタ膜を備える光学素子の製造方法:透光性基板の表面に光学フィルタ材料膜を形成する工程、光学フィルタ材料膜の表面に保護膜を形成する工程、基板の光学フィルタ膜を形成する表面領域の周囲の領域の基板表面層を、その上の光学フィルタ材料膜および保護膜と共に切削して除去することにより、基板の前記表面領域に保護膜で被覆された光学フィルタ膜を残す工程、保護膜の表面及び保護膜の周囲の基板表面に金属材料膜を形成する工程、および保護膜を溶媒と接触させて溶解させ、保護膜をその上の金属材料膜と共に除去することにより、光学フィルタ膜の周囲に金属膜を残す工程。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記の工程からなる、透光性基板の表面に周囲が金属膜で囲まれた反射防止膜もしくは光学フィルタ膜を備える光学素子の製造方法: (1)透光性基板の表面に反射防止材料膜もしくは光学フィルタ材料膜を形成する工程; (2)反射防止材料膜もしくは光学フィルタ材料膜の表面に保護膜を形成する工程; (3)該基板の反射防止膜もしくは光学フィルタ膜を形成する表面領域の周囲の領域の基板表面層を、その上の反射防止材料膜もしくは光学フィルタ材料膜、および保護膜と共に切削して除去することにより、基板の前記表面領域に保護膜で被覆された反射防止膜もしくは光学フィルタ膜を残す工程; (4)保護膜の表面及び該保護膜の周囲の基板表面に金属材料膜を形成する工程;および (5)保護膜を溶媒と接触させて溶解させ、該保護膜をその上の金属材料膜と共に除去することにより、反射防止膜もしくは光学フィルタ膜の周囲に金属膜を残す工程。

IPC (3件)：

G02B 1/11 ,  G02B 5/22 ,  G01J 5/08

FI (3件)：

G02B1/10 A ,  G02B5/22 ,  G01J5/08 Z

Fターム (19件)：

2G066AC13 ,  2G066BA23 ,  2G066BA30 ,  2G066BB07 ,  2G066BB20 ,  2H048CA05 ,  2H048CA09 ,  2H048CA14 ,  2H048CA17 ,  2H048CA24 ,  2H048CA25 ,  2H048CA29 ,  2K009AA02 ,  2K009BB01 ,  2K009BB02 ,  2K009CC14 ,  2K009CC21 ,  2K009DD03 ,  2K009FF02

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 赤外線検出器
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-098147   出願人：株式会社大真空