特許
J-GLOBAL ID：200903054525571317
膜装置による塩素系殺菌剤含有液の不純物の除去方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高橋 章
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-102017
公開番号（公開出願番号）：特開平9-271772
出願日： 1996年04月02日
公開日（公表日）： 1997年10月21日
要約：
【要約】【課題】 塩素殺菌処理液中の不純物を除去する際に、UFやRO等の膜の塩素による劣化、能力低下を防止するとともに、膜装置に供給する液体に適度の殺菌性を保持してUFやRO等の膜、膜装置等の雑菌の発生、繁殖を防止し、膜装置の不純物除去能力を最大限に発揮させて高純度の処理液を安価に得る。【手段】 塩素を添加して細菌等を殺菌した液体に紫外線を照射して塩素を分解除去するについて、液体中の塩素の濃度に応じて、紫外線照射の中断または紫外線照射量を低減することによって、液体中の塩素の濃度をUFやRO等の膜に支障をきたさない範囲に調整し、この塩素濃度を調整した液体をUFやRO等の膜装置で処理して不純物を除去する。
請求項（抜粋）：
塩素系殺菌剤を添加して液体中の細菌等を殺菌した後、液体中の塩素系殺菌剤を紫外線照射して分解除去するについて、液体中の塩素系殺菌剤の濃度に応じて、紫外線照射の中断または紫外線照射量を低減することによって、液体中の塩素系殺菌剤の濃度を、UFやRO等の膜に支障をきたさない範囲である0.1〜0.3ppmに調整し、この濃度を調整した液体をUFやRO等の膜で処理して不純物を除去する膜装置による塩素系殺菌剤含有液の不純物の除去方法。
IPC (11件)：
C02F 1/44
, B01D 61/04
, B01D 61/16
, C02F 1/32
, C02F 1/50 510
, C02F 1/50 520
, C02F 1/50 531
, C02F 1/50 550
, C02F 1/50 560
, C02F 1/50
, C02F 1/76 ZAB
C02F 1/44 H
, B01D 61/04
, B01D 61/16
, C02F 1/32
, C02F 1/50 510 A
, C02F 1/50 520 A
, C02F 1/50 531 P
, C02F 1/50 550 H
, C02F 1/50 560 C
, C02F 1/50 560 E
, C02F 1/76 ZAB A
