特許
J-GLOBAL ID：200903054581928341

パターン形成材料、並びに、パターン形成装置及びパターン形成方法

発明者：
高島 正伸

高島 正伸 について

, 
若田 裕一

若田 裕一 について

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南 一守

南 一守 について

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藤牧 一広

藤牧 一広 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (3件)： 廣田 浩一 ,  流 良広 ,  松田 奈緒子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-356849
公開番号（公開出願番号）：特開2007-052392
出願日： 2005年12月09日
公開日（公表日）： 2007年03月01日
要約：
【課題】カルボン酸を含有させることにより、感度が高く、良好なレジストパターン形状が得られ、かつ、テント膜強度が強く、高精細で高アスペクト比のパターンを形成可能なパターン形成材料、並びに、該パターン形成材料を用いたパターン形成装置及びパターン形成方法の提供。【解決手段】バインダー、重合性化合物、光重合開始剤、及び分子量が180〜2,000のモノカルボン酸化合物を含む感光性組成物を用いて得られた感光層を有し、該感光層を露光し現像する場合に、前記感光層の露光する部分の厚みを該露光及び現像後において変化させない前記露光に用いる光の最小エネルギーが、0.1〜50mJ/cm2であることを特徴とするパターン形成材料である。また、該パターン形成材料を用いるパターン形成装置及びパターン形成方法である。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
バインダー、重合性化合物、光重合開始剤、及び分子量が180〜2,000のモノカルボン酸化合物を少なくとも含む感光性組成物を用いて形成された感光層を有し、 該感光層を露光し現像する場合に、前記感光層の露光する部分の厚みを該露光及び現像後において変化させない前記露光に用いる光の最小エネルギーが、0.1〜50mJ/cm2であることを特徴とするパターン形成材料。
IPC (9件)：
G03F 7/031 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/029 ,  H05K 3/28 ,  H05K 3/00 ,  H05K 3/06 ,  H05K 3/18 ,  H05K 3/46 ,  H01L 21/027
FI (10件)：
G03F7/031 ,  G03F7/004 512 ,  G03F7/029 ,  H05K3/28 D ,  H05K3/28 F ,  H05K3/00 G ,  H05K3/06 J ,  H05K3/18 D ,  H05K3/46 T ,  H01L21/30 502R
Fターム (61件)：
2H025AA03 ,  2H025AA04 ,  2H025AB15 ,  2H025AC01 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025BC13 ,  2H025BC42 ,  2H025BC45 ,  2H025BC53 ,  2H025BC66 ,  2H025BD23 ,  2H025CA01 ,  2H025CA07 ,  2H025CA18 ,  2H025CA27 ,  2H025CA28 ,  2H025CA35 ,  2H025CA39 ,  2H025CA48 ,  2H025CB16 ,  2H025CB17 ,  2H025CC17 ,  2H025CC20 ,  2H025EA08 ,  2H025FA03 ,  2H025FA10 ,  2H025FA17 ,  5E314AA26 ,  5E314AA27 ,  5E314BB01 ,  5E314CC15 ,  5E314DD07 ,  5E314EE03 ,  5E314FF01 ,  5E314GG26 ,  5E339BC02 ,  5E339BE13 ,  5E339CC01 ,  5E339CD01 ,  5E339CE12 ,  5E339CF16 ,  5E339CF17 ,  5E339DD02 ,  5E339GG02 ,  5E343BB24 ,  5E343BB71 ,  5E343CC62 ,  5E343CC67 ,  5E343ER11 ,  5E343ER18 ,  5E343GG08 ,  5E343GG20 ,  5E346AA12 ,  5E346AA15 ,  5E346AA32 ,  5E346AA43 ,  5E346CC08 ,  5E346EE31 ,  5E346GG28 ,  5E346HH40
引用特許：
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (4件)
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