特許
J-GLOBAL ID:200903054591967396

導電性コーテイング材の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 石田 敬 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-235000
公開番号(公開出願番号):特開平10-316936
出願日: 1997年08月29日
公開日(公表日): 1998年12月02日
要約:
【要約】【課題】 電子写真感光体に求められる機能を損なうことなく、光学的均一性に優れ、且つ導電性を有する、電子写真感光体の保護層を形成しうるコーテイング材の製法を提供する。【解決手段】 シリカゲルの存在下で、一般式R2 Si(OR3 ) 3 (R2 はエポキシ基を構造中に含む有機基等の少なくとも1種で、少なくとも一部は上記エポキシ含有基であり、R3 はC1-8 の飽和炭化水素基である)で表されるシラン化合物を、アルコールと水の混合溶媒中で加水分解縮合させる。
請求項(抜粋):
後記、下記一般式(2)で表されるシラン化合物の加水分解縮合後の加熱硬化によって生ずる一般式が下記式(1)で表されるポリシロキサン樹脂成分100重量部に対して1重量部〜200重量部に相当する量の微細シリカの存在下で、下記一般式(2)で表されるシラン化合物を、アルコールと水とを含有する混合溶媒(但し、この溶媒に含まれる水の重量は前記シラン化合物の加水分解縮合に必要な重量以上の量である。)中で加水分解縮合させてなる、微細シリカを結合して含むポリシロキサン樹脂であって、加熱硬化したとき体積抵抗が1×109 Ωcm以上、1×1014Ωcm以下の範囲にある導電性被膜を与えるコーテイング材の製造方法。一般式(1):R1 SiO3/2(ここでR1 は独立にエポキシ基を構造中に含む有機基、炭素数1〜18の飽和炭化水素基、及び炭素数6〜18の芳香族炭化水素基から選ばれる少なくとも1種であり、少なくとも一部はエポキシ基を構造中に含む有機基である。)一般式(2):R2 Si(OR3 ) 3(ここでR2 はエポキシ基を構造中に含む有機基、炭素数1〜18の飽和炭化水素基、炭素数6〜18の芳香族炭化水素から選ばれる少なくとも1種であり、少なくとも一部はエポキシ基を構造中に含む有機基であり、R3 は炭素数1〜8の直鎖状の飽和炭化水素基である。)
IPC (5件):
C09D183/06 ,  C09D 5/24 ,  G02B 1/10 ,  G03G 5/147 502 ,  B05D 7/24 302
FI (5件):
C09D183/06 ,  C09D 5/24 ,  G03G 5/147 502 ,  B05D 7/24 302 Y ,  G02B 1/10 Z
引用特許:
審査官引用 (27件)
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