水素供給装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：伊藤洋二 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-120601
公開番号（公開出願番号）：特開2003-313006
出願日： 2002年04月23日
公開日（公表日）： 2003年11月06日
要約：

【要約】【課題】燃焼ガスを用いて改質触媒を加熱する水素供給装置において、改質触媒の担持領域を最適化する。【解決手段】水素供給装置は、改質反応に用いられる改質原料が通過する低温流体通路Aと、燃焼ガスが通過する高温流体通路Bと、改質反応に用いられる改質触媒が設けられているとともに、燃焼ガスの熱を改質触媒に伝える熱交換部20とを備える。改質触媒を熱交換部20における触媒劣化温度以上となる触媒劣化領域Ldを除く任意の部位に担持する。さらに、熱交換部20における触媒劣化領域Ldを除く任意の部位に酸化触媒を担持する。

請求項（抜粋）：

改質反応により生成した水素を水素消費装置(40)に供給する水素供給装置であって、前記改質反応に用いられる改質原料が通過する低温流体通路(A)と、燃焼ガスが通過する高温流体通路(B)と、前記改質反応に用いられる改質触媒が設けられているとともに、前記燃焼ガスの熱を前記改質触媒に伝える熱交換部(20)とを備え、前記改質触媒は、前記熱交換部(20)における触媒劣化温度以上となる触媒劣化領域(Ld)を除く任意の部位に担持されていることを特徴とする水素供給装置。

IPC (4件)：

C01B 3/38 ZAB , B01D 53/94 , H01M 8/04 , H01M 8/06

FI (4件)：

C01B 3/38 ZAB , H01M 8/04 N , H01M 8/06 G , B01D 53/36 103 Z

Fターム (19件)：

4D048AA13 , 4D048AA18 , 4D048AB01 , 4D048CC38 , 4D048CD01 , 4G140EA03 , 4G140EA06 , 4G140EA07 , 4G140EB14 , 4G140EB23 , 4G140EB31 , 4G140EB32 , 4G140EB35 , 4G140EB42 , 4G140EB44 , 4G140EB45 , 4G140EB46 , 5H027AA02 , 5H027BA01

引用特許：

審査官引用 (10件)

特開昭52-057425
特開昭63-025201
特開平2-160603

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