高配向グラファイト及びその製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-134346
公開番号（公開出願番号）：特開2005-314168
出願日： 2004年04月28日
公開日（公表日）： 2005年11月10日
要約：

【課題】従来のピロメリット酸二無水物と4,4’-ジアミノジフェニルエーテル(4,4’-オキシジアニリン)から合成されるポリイミドフィルムの積層体を加熱加圧処理して得られる高配向グラファイトは、ロッキング特性(配向性)が0.45より大きいため、放射線反射性及び熱伝導性に劣り、高性能な放射線光学素子、高熱伝導体としては不十分であった。【解決手段】放射線光学素子、高熱伝導体において、複屈折の高いポリイミドフィルムの積層体を加熱加圧処理して得られた厚みが0.1mm以上、6mm以下で、ロッキング特性が0.44以下である高配向グラファイトを用いることを特徴とする。また、高配向グラファイトの製造方法において、複屈折の高いポリイミドフィルムの積層体を加熱加圧処理して製造することを特徴とする。さらに、原料の厚みを増やし、炭化中も加圧すると品質が高くなる。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

ポリイミドフィルムまたはポリイミドフィルムから得られた炭素質フィルムを複数枚積層して加熱加圧処理して得られるグラファイトにおいて、出来上がり厚みが0.1mm以上、6mm以下で、ロッキング特性が0.44以下であることを特徴とする高配向グラファイト

IPC (1件)：

C01B31/04

FI (1件)：

C01B31/04 101A

Fターム (20件)：

4G146AA03 , 4G146AB07 , 4G146AD05 , 4G146AD22 , 4G146AD40 , 4G146BA11 , 4G146BA15 , 4G146BB04 , 4G146BB05 , 4G146BB06 , 4G146BB07 , 4G146BB22 , 4G146BC03 , 4G146BC04 , 4G146BC23 , 4G146BC33B , 4G146BC34B , 4G146BC35B , 4G146BC36B , 4G146BC38B

引用特許：

出願人引用 (2件)

特開平4-202052
特開平4-202055

審査官引用 (8件)

特開平4-202054
フィルム状グラファイトの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-060596 出願人：鐘淵化学工業株式会社
特開平3-279207

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