特許

J-GLOBAL ID：200903066541657130

グラファイト層の形成方法、該方法によって形成されたグラファイト層を有するX線光学素子及びX線光学素子の製造方法

発明者： 湯田坂 雅子 ,  松井 丈雄 ,  菊地 理恵 ,  大木 芳正
出願人/特許権者： 新技術事業団 ,  松井 丈雄 ,  菊地 理恵 ,  大木 芳正
代理人 (1件)： 田中 宏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-058732
公開番号（公開出願番号）：特開平8-260150
出願日： 1995年03月17日
公開日（公表日）： 1996年10月08日
要約：

【要約】【目的】X線光学素子として使用できる高配向性を有するグラファイト結晶層を形成する方法を提供することを目的とする。【構成】ガラス質ないし結晶質の基体表面に形成されている金属薄膜の上に化学気相堆積法によりグラファイト層を形成することを特徴とするグラファイト層の形成方法である。

請求項（抜粋）：

ガラス質ないし結晶質の基体表面に形成されている金属薄膜の上に化学気相堆積法によりグラファイト層を形成することを特徴とするグラファイト層の形成方法。

IPC (5件)：

C23C 16/26 ,  C01B 31/04 101 ,  C23C 16/02 ,  C30B 28/14 ,  G21K 1/06

FI (5件)：

C23C 16/26 ,  C01B 31/04 101 Z ,  C23C 16/02 ,  C30B 28/14 ,  G21K 1/06 D

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭63-004069
  
• グラファイト薄膜の形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-064946   出願人：新技術事業団, 菊地理恵, 大木芳正, 松井丈雄