特許
J-GLOBAL ID：200903054662661447
光学シート用電離放射線硬化型樹脂組成物、光学シート及びその製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小西 淳美
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-331406
公開番号（公開出願番号）：特開平10-158349
出願日： 1996年11月28日
公開日（公表日）： 1998年06月16日
要約：
【要約】【課題】 鋭角なプリズム形状を有し肉厚な光学シートの製造に使用できる硬化速度の速い電離放射線硬化型樹脂組成物と、当該樹脂組成物による光学シートおよびその製造方法を提供する。【解決手段】 環状構造を有する、二以上のアクリレート基を有するエポキシアクリレートと環状構造を有する単官能アクリレートからなる組成物の光硬化に、光開始剤として、ビス-2,6-ジメチルオキシベンゾイル-2,4,4-トリメチルフェニルフォスフィンオキサイドを使用することにより、鋭角なプリズム形状を有し肉厚な光学シートの製造に使用することができる硬化速度の速い電離放射線硬化型樹脂組成物が得られる。また、上記組成物による光学的な微細構造を透明樹脂層上に形成することにより鋭角な頂角やアスペクト比を実現した各種光学シートが得られる。さらに、上記光学シートは微細凹凸形状が形成されたロール凹版と透明樹脂シートとの間に当該電離放射線硬化型樹脂組成物を充填し電離放射線により硬化させる本発明の製造方法により効率的に製造することができる。
請求項（抜粋）：
環状構造を有し、二つ以上のアクリレート基を有するエポキシアクリレート(a)と環状構造を有する単官能アクリレート(b)と光開始剤(c)からなり、光開始剤(c)にビス-2,6-ジメチルオキシベンゾイル-2,4,4-トリメチルフェニルフォスフィンオキサイドを含むことを特徴とする光学シート用電離放射線硬化型樹脂組成物。
IPC (7件)：
C08F290/06
, B29D 11/00
, C08G 59/20
, G02B 1/04
, G03B 21/62
, C08F 2/50
, B29K101:10
C08F290/06
, B29D 11/00
, C08G 59/20
, G02B 1/04
, G03B 21/62
, C08F 2/50
