特許

J-GLOBAL ID：200903054682532740

排ガスの処理剤及び処理方法

発明者： 原田 功 ,  在塚 眞 ,  星川 真樹
出願人/特許権者： 三井東圧化学株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-128290
公開番号（公開出願番号）：特開平8-318131
出願日： 1995年05月26日
公開日（公表日）： 1996年12月03日
要約：

【要約】【構成】 一般式が次式で構成される、ハイドロタルサイト及び非結晶構造を有する前駆体のうち、M3+が三価の金属イオン、M2+が二価の金属イオン及びAn-がn価の陰イオンを主体としてなるシラン系ガスを含む排ガスの処理剤及び該処理剤を半導体装置から排出するシラン系ガスを含む排ガスと気固接触によって処理する排ガスの処理方法に関する。[M3+X M2+1-X(OH)2]X+[An-X/nmH2O]X-【効果】 排ガス中に含まれるシラン系ガスの処理温度を高温にすることなく、0.1ppm以下まで除害することが可能。

請求項（抜粋）：

一般式が化1で構成される、ハイドロタルサイト及び非結晶構造を有する前駆体のうち、M3+が三価の金属イオン、M2+が二価の金属イオン及びAn-がn価の陰イオンを主体としてなるシラン系ガスを含む排ガスの処理剤。【化1】[M3+XM2+1-X(OH)2]X+[An-X/nmH2O]X-

IPC (3件)：

B01D 53/86 ZAB ,  B01D 53/46 ,  B01J 20/08

FI (3件)：

B01D 53/36 ZAB Z ,  B01J 20/08 C ,  B01D 53/34 120 A

引用特許：

審査官引用 (1件)

• ガスの処理方法及びガス処理剤
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-017148   出願人：日本酸素株式会社