特許
J-GLOBAL ID：200903064945978760
ガスの処理方法及びガス処理剤
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
木戸 一彦 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-017148
公開番号（公開出願番号）：特開平8-206432
出願日： 1995年02月03日
公開日（公表日）： 1996年08月13日
要約：
【要約】【目的】 各種ガスの精製処理あるいは排ガス等に含まれている有害成分を除去する除害処理を効率よく行えるガスの処理方法及びガス処理剤を提供する。【構成】 一般式[M2+1-x M3+x (OH)2 ] x+An-x/n ・mH2 O(式中、M2+は2価の金属イオン,M3+は3価の金属イオン,An-はn価の陰イオン,Xは0.16〜0.33の実数,nは1以上の自然数,mは0,1,2のいずれかを示す。)で表されるハイドロタルサイトを主成分とする。
請求項（抜粋）：
ガスと固体処理剤とを接触させてガスの精製処理あるいは除害処理を行う方法において、処理対象ガスを、一般式[M2+1-x M3+x (OH)2 ] x+An-x/n ・mH2 O(式中、M2+は2価の金属イオン,M3+は3価の金属イオン,An-はn価の陰イオン,Xは0.16〜0.33の実数,nは1以上の自然数,mは0,1,2のいずれかを示す。)で表されるハイドロタルサイトを主成分とする処理剤に接触させることを特徴とするガスの処理方法。
IPC (6件)：
B01D 53/02
, B01D 53/34 ZAB
, B01D 53/81 ZAB
, B01D 53/46
, B01D 53/68
, B01J 20/08
B01D 53/34 ZAB B
, B01D 53/34 120 A
, B01D 53/34 134 Z
