特許
J-GLOBAL ID：200903054687221581

微小流路構成体およびその製造方法

発明者：
小椋 直嗣

小椋 直嗣 について

, 
五十嵐 哲

五十嵐 哲 について


出願人/特許権者：
カシオ計算機株式会社

カシオ計算機株式会社 について


代理人 (1件)： 花輪 義男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-071547
公開番号（公開出願番号）：特開2003-265949
出願日： 2002年03月15日
公開日（公表日）： 2003年09月24日
要約：
【要約】【課題】 例えば、流体化された混合物質を微小な流路内に設けられた触媒による化学反応(触媒反応)により、所望の流体物質を生成する微小流路構成体(小型化学反応装置)において、流路内での反応速度を左右する触媒の量を比較的多くする。【解決手段】 小型のシリコン基板21の一面に形成された微小な流路22の内壁面にはアルミニウム膜23が形成されている。この場合、アルミニウム膜23を溶射法により形成すると、その厚さを比較的厚くすることができる。そして、アルミニウム膜23の表面には比較的厚めの多孔質の陽極酸化膜が形成され、この比較的厚めの多孔質の陽極酸化膜には比較的多めの触媒が付着されている。
請求項（抜粋）：
小型の基板と、該基板の一面に形成された微小な流路と、該流路内に溶射法により形成された金属膜の少なくとも表面側に形成された多孔質膜とを備えていることを特徴とする微小流路構成体。
IPC (9件)：
B01J 19/00 321 ,  C01B 3/32 ,  C23C 4/08 ,  C23C 4/18 ,  C25D 11/04 ,  C25D 11/04 305 ,  C25D 11/16 ,  C25D 11/18 308 ,  H01M 8/06
FI (9件)：
B01J 19/00 321 ,  C01B 3/32 A ,  C23C 4/08 ,  C23C 4/18 ,  C25D 11/04 E ,  C25D 11/04 305 ,  C25D 11/16 ,  C25D 11/18 308 ,  H01M 8/06 G
Fターム (32件)：
4G075AA24 ,  4G075BA06 ,  4G075BC10 ,  4G075BD05 ,  4G075BD16 ,  4G075BD26 ,  4G075CA02 ,  4G075CA54 ,  4G075DA02 ,  4G075DA13 ,  4G075EA02 ,  4G075EA06 ,  4G075EE03 ,  4G075EE21 ,  4G075EE31 ,  4G075FA12 ,  4G075FB02 ,  4G140EA02 ,  4G140EA06 ,  4G140EB03 ,  4G140EB14 ,  4G140EB23 ,  4G140EB33 ,  4G140EB46 ,  4K031AA08 ,  4K031AB02 ,  4K031BA02 ,  4K031BA06 ,  4K031CB07 ,  4K031CB37 ,  4K031FA05 ,  5H027BA01
引用特許：
審査官引用 (5件)
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