特許
J-GLOBAL ID：200903054735986323
マスクデータ補正方法および補正装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：
深見 久郎
, 森田 俊雄
, 仲村 義平
, 堀井 豊
, 野田 久登
, 酒井 將行
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-220069
公開番号（公開出願番号）：特開2008-046245
出願日： 2006年08月11日
公開日（公表日）： 2008年02月28日
要約：
【課題】下地の段差に応じてマスクデータを補正することが可能なマスクデータ補正装置を提供すること。【解決手段】領域分割部23は、下地の段差に応じてマスクデータを複数の領域に分割する。焦点位置設定部24は、領域分割部23によって分割された領域に焦点位置を設定する。光強度シミュレーション部25は、焦点位置設定部24によって設定された焦点位置に応じて各領域の光強度シミュレーションを行なう。そして、マスク補正部26は、光強度シミュレーション部25による各領域のシミュレーション結果に応じてマスクデータを補正する。したがって、下地の段差に応じてマスクデータを補正することが可能となる。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
半導体チップに転写するマスクデータを補正するマスクデータ補正方法であって、
下地の段差に応じて前記マスクデータを複数の領域に分割するステップと、
前記分割された領域に焦点位置を設定するステップと、
前記設定された焦点位置に応じて各領域の光強度シミュレーションを行なうステップと、
各領域のシミュレーション結果に応じて前記マスクデータを補正するステップとを含む、マスクデータ補正方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (3件)：
2H095BB02
, 2H095BB36
, 2H095BC09
