特許

J-GLOBAL ID：200903054755587824

光学素子の製造方法

発明者： 黒田 亮 ,  西馬 聡
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (3件)： 宮崎 昭夫 ,  石橋 政幸 ,  緒方 雅昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-072429
公開番号（公開出願番号）：特開2008-232806
出願日： 2007年03月20日
公開日（公表日）： 2008年10月02日
要約：

【課題】ナノメートルオーダーの高精度で金属微粒子や金属微小開口のサイズや配列を有する、高感度な局在表面プラズモン共鳴センサを、製造単価の安い製造方法を用いて作成することを目的としている。【解決手段】本発明は、第1の部材からなる誘電体の基板の少なくとも一つの表面に、該表面の法線方向に対し、外側に突出した突起、あるいは、内側に窪んだ窪みを形成する工程と、前記突起部あるいは前記窪みに対し、前記法線及び前記表面に対し斜め方向から第2の材料をからなる膜を形成する工程と、を有し、少なくとも前記突起部と隣接した前記表面の前記第1の部材が露出した領域、あるいは、前記窪みに前記第1の部材が露出した領域が形成されることを特徴とする光学素子の製造方法である。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

第1の部材からなる誘電体基板の少なくとも一つの表面に、該表面の法線方向に対し、外側に突出した突起、あるいは、内側に窪んだ窪みを形成する工程と、 前記突起部あるいは前記窪みに対し、前記法線及び前記表面に対し斜め方向から第2の材料をからなる膜を形成する工程と、を有し、 少なくとも前記突起部と隣接した前記表面の前記第1の部材が露出した領域、あるいは、 前記窪みに前記第1の部材が露出した領域が形成されることを特徴とする光学素子の製造方法。

IPC (1件)：

G01N 21/27

FI (1件)：

G01N21/27 C

Fターム (11件)：

2G059AA01 ,  2G059BB12 ,  2G059CC16 ,  2G059CC17 ,  2G059EE02 ,  2G059HH01 ,  2G059HH02 ,  2G059HH03 ,  2G059JJ01 ,  2G059JJ03 ,  2G059JJ11

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 局在プラズモン共鳴センサー
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-167548   出願人：理化学研究所
• 化学センサ装置・媒体およびそれを用いた検査方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-004491   出願人：キヤノン株式会社

審査官引用 (1件)

• 表面プラズモンを増強するナノ光学素子及びこの製造方法
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2006-522587   出願人：ユニバーシティーオブピッツバーグ