特許
J-GLOBAL ID：200903054801109150

基板処理装置及び基板処理方法

発明者：
折居 武彦

折居 武彦 について

, 
西田 辰也

西田 辰也 について

, 
黒田 修

黒田 修 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 萩原 康司 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-234836
公開番号（公開出願番号）：特開2003-045839
出願日： 2001年08月02日
公開日（公表日）： 2003年02月14日
要約：
【要約】【課題】 低速回転でも安定した処理が可能であるとともに,レジスト処理のスループットを向上させることができる基板処理装置及び基板処理方法を提供する。【解決手段】 異なる処理流体を供給する複数の供給手段61,62,63を基板Wの周辺部に沿って相対的に移動させて,基板Wを処理する基板処理装置において,複数の供給手段61,62,63を,基板Wの周辺から内側に向かう方向に並べて配置した。
請求項（抜粋）：
異なる処理流体を供給する複数の供給手段を基板の周辺部に沿って相対的に移動させて,基板を処理する基板処理装置であって,前記複数の供給手段を,基板の周辺から内側に向かう方向に並べて配置したことを特徴とする,基板処理装置。
IPC (12件)：
H01L 21/304 643 ,  H01L 21/304 ,  H01L 21/304 645 ,  H01L 21/304 648 ,  B05C 9/12 ,  B05C 11/08 ,  B05C 11/10 ,  B05D 1/40 ,  B05D 3/00 ,  B05D 3/10 ,  B08B 3/02 ,  H01L 21/306
FI (13件)：
H01L 21/304 643 A ,  H01L 21/304 643 C ,  H01L 21/304 645 A ,  H01L 21/304 648 G ,  B05C 9/12 ,  B05C 11/08 ,  B05C 11/10 ,  B05D 1/40 A ,  B05D 3/00 B ,  B05D 3/10 F ,  B08B 3/02 B ,  H01L 21/306 R ,  H01L 21/306 J
Fターム (48件)：
3B201AA02 ,  3B201AA03 ,  3B201AB34 ,  3B201AB42 ,  3B201BB22 ,  3B201BB24 ,  3B201BB92 ,  3B201BB93 ,  3B201CC01 ,  3B201CC12 ,  3B201CC13 ,  4D075AC59 ,  4D075AC60 ,  4D075AC64 ,  4D075AC79 ,  4D075AC84 ,  4D075AC86 ,  4D075AC88 ,  4D075AC93 ,  4D075BB14Y ,  4D075BB65Z ,  4D075CA47 ,  4D075DA06 ,  4D075DB13 ,  4D075DB14 ,  4D075DC22 ,  4D075EA05 ,  4D075EA60 ,  4D075EB01 ,  4F042AA07 ,  4F042BA08 ,  4F042DD32 ,  4F042DD38 ,  4F042DE03 ,  4F042DF09 ,  4F042DF28 ,  4F042DF32 ,  4F042EB05 ,  4F042EB06 ,  4F042EB09 ,  4F042EB18 ,  4F042EB24 ,  4F042EB28 ,  4F042ED05 ,  5F043DD13 ,  5F043EE07 ,  5F043EE08 ,  5F043EE09
引用特許：
審査官引用 (3件)
  • 基板端縁処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-269990   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
  • 基板処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-030511   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
  • 基板端縁洗浄装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-019587   出願人：大日本スクリーン製造株式会社

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