特許
J-GLOBAL ID：200903054852202341
光学素子の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉村 暁秀 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-331153
公開番号（公開出願番号）：特開平7-005318
出願日： 1993年12月27日
公開日（公表日）： 1995年01月10日
要約：
【要約】【目的】 光学素子を効率よく高精度に製造できる光学素子の製造方法を提供する。【構成】 基板(1) 上に加工層(2) を形成する工程と、基板(1) 上に形成された加工層(2) を所望の形状に機械加工する工程と、所望の形状に加工された加工層(2) および基板(1) を侵食加工して、加工層(2) の形状を深さ方向に相似的に基板(1) に形成する工程とを有する。
請求項（抜粋）：
基板上に加工層を形成する工程と、前記基板上に形成された加工層を所望の形状に機械加工する工程と、所望の形状に加工された加工層および前記基板を侵食加工して、加工層の形状を深さ方向に相似的に前記基板に形成する工程とを有することを特徴とする光学素子の製造方法。
IPC (3件)：
G02B 5/18
, B29D 11/00
, G02B 3/02
