特許
J-GLOBAL ID:200903054928830738

オゾンガス発生装置及びオゾン溶解水製造装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 内山 充
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-076310
公開番号(公開出願番号):特開2004-285374
出願日: 2003年03月19日
公開日(公表日): 2004年10月14日
要約:
【課題】電解式オゾン発生装置の隔膜の劣化の状態を正確に把握して、適切な時期に隔膜を交換することを可能とするとともに、オゾンガス系及びオゾン溶解水系における水素ガスによる事故を防止することができるオゾンガス発生装置及びオゾン溶解水製造装置を提供する。【解決手段】隔膜で区画して一方の側を陰極室、他方の側を陽極室とした電解装置に純水を供給して電解し、発生したオゾン含有ガスを陽極室から排出するオゾンガス発生装置において、前記排出されたオゾン含有ガス中のオゾンを分解するオゾン分解装置と、オゾン分解装置を経たガスと接触させて該ガス中の水素ガス濃度を測定する水素計測装置とを設けてなることを特徴とするオゾンガス発生装置、及び、該オゾンガス発生装置と、該オゾンガス発生装置から排出されたオゾン含有ガスを水に溶解させるガス溶解装置とを備えてなることを特徴とするオゾン溶解水製造装置。【選択図】 図3
請求項(抜粋):
隔膜で区画して一方の側を陰極室、他方の側を陽極室とした電解装置に純水を供給して電解し、発生したオゾン含有ガスを陽極室から排出するオゾンガス発生装置において、前記排出されたオゾン含有ガス中のオゾンを分解するオゾン分解装置と、オゾン分解装置を経たガスと接触させて該ガス中の水素ガス濃度を測定する水素計測装置とを設けてなることを特徴とするオゾンガス発生装置。
IPC (5件):
C25B1/13 ,  B01F1/00 ,  C01B13/10 ,  C02F1/78 ,  C25B1/28
FI (6件):
C25B1/00 F ,  B01F1/00 A ,  C01B13/10 D ,  C01B13/10 Z ,  C02F1/78 ,  C25B1/28
Fターム (23件):
4D050AA01 ,  4D050AA12 ,  4D050AB06 ,  4D050AB07 ,  4D050BB02 ,  4D050BD03 ,  4D050BD04 ,  4D050BD06 ,  4D050BD08 ,  4G035AA01 ,  4G042CA04 ,  4G042CB14 ,  4G042CB29 ,  4G042CC23 ,  4G042CE01 ,  4K021AB15 ,  4K021BA02 ,  4K021BB03 ,  4K021BC06 ,  4K021BC09 ,  4K021CA09 ,  4K021CA15 ,  4K021DB31
引用特許:
審査官引用 (2件)

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