特許

J-GLOBAL ID：200903054980775664

位相シフトフォトマスクの製造方法

発明者： 三上豪一
出願人/特許権者： 大日本印刷株式会社
代理人 (1件)： 韮澤 弘 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-079804
公開番号（公開出願番号）：特開平5-281701
出願日： 1992年04月01日
公開日（公表日）： 1993年10月29日
要約：

【要約】【目的】 製造プロセス中に、位相シフターに変質が起こり、屈折率変化が検出された場合に、簡単な工程の追加により、変質した位相シフターを復元する。【構成】 透明層33を形成し、その透明層33をパターニングして位相シフターパターン35を形成する位相シフトフォトマスクの製造方法において、透明層形成後の工程でのシラノール化等の反応による透明層35の少なくとも一部の屈折率の変化を、パターニング後の後処理40によって元の屈折率に復元する。

請求項（抜粋）：

透明層を形成し、その透明層をパターニングして位相シフターパターンを形成する位相シフトフォトマスクの製造方法において、透明層形成後の工程でのシラノール化等の反応による透明層の少なくとも一部の屈折率の変化を、パターニング後の後処理によって元の屈折率に復元することを特徴とする位相シフトフォトマスクの製造方法。

IPC (2件)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

H01L 21/30 301 P ,  H01L 21/30 311 W

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開平3-287163
  
• マスク製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-239240   出願人：株式会社日立製作所