特許
J-GLOBAL ID：200903055058878388
X線マスクと該マスクの製造方法と製造装置、ならびに該マスクを用いたX線露光方法と露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
若林 忠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-127448
公開番号（公開出願番号）：特開平7-094406
出願日： 1994年06月09日
公開日（公表日）： 1995年04月07日
要約：
【要約】【目的】 パターンが正確に描画され、SR-X線を効率良く使用することのできるX線マスクの提供、および該マスクを用いて露光を行い、効率のよい製造を行う露光装置や方法を実現すること。【構成】 シンクロトロン放射光を用いた露光に使用されるX線マスクにおいて、長尺形状の支持膜と、該支持膜上に形成された転写パターンとを有することを特徴とする。
請求項（抜粋）：
シンクロトロン放射光を用いた露光に使用されるX線マスクにおいて、長尺形状の支持膜と、該支持膜上に形成された転写パターンとを有することを特徴とするX線マスク。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L 21/30 531 M
, H01L 21/30 531 A
, H01L 21/30 531 E
