特許
J-GLOBAL ID:200903055095769270
Ni/SiO2触媒およびその製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-067121
公開番号(公開出願番号):特開2005-254091
出願日: 2004年03月10日
公開日(公表日): 2005年09月22日
要約:
【課題】担体の有する高い比表面積を有効に活用することができないこと、またNiの高分散化が困難なためNi比表面積を増大できず十分な特性が得られないという課題を解決した、マクロ細孔とメソ細孔の二種類のタイプの細孔を有し、優れた物質輸送能を持ち且つ高いNi比表面積を有する高活性の触媒を提供する。 【解決手段】マイクロメートル領域の細孔径を有するマクロ細孔と、ナノメートル領域の細孔径を有するメソ細孔との二種類のタイプの細孔を有する二元細孔シリカにNiを担持したNi/SiO2触媒であって、Ni/(Ni+SiO2)の重量比が0.2〜0.6且つNi比表面積が20〜50m2/gであることを特徴とするNi/SiO2触媒。 【選択図】なし
請求項(抜粋):
マイクロメートル領域の細孔径を有するマクロ細孔と、ナノメートル領域の細孔径を有するメソ細孔との二種類のタイプの細孔を有する二元細孔シリカにNiを担持したNi/SiO2触媒であって、Ni/(Ni+SiO2)の重量比が0.2〜0.6且つNi比表面積が20〜50m2/gであることを特徴とするNi/SiO2触媒。
IPC (4件):
B01J23/755
, B01J35/10
, B01J37/02
, B82B1/00
FI (4件):
B01J23/74 321M
, B01J35/10 301G
, B01J37/02 101Z
, B82B1/00
Fターム (44件):
4G069AA03
, 4G069AA08
, 4G069BA02A
, 4G069BA02B
, 4G069BA21C
, 4G069BA22C
, 4G069BC68A
, 4G069BC68B
, 4G069BE08C
, 4G069CC04
, 4G069EA01Y
, 4G069EC02X
, 4G069EC02Y
, 4G069EC09X
, 4G069EC09Y
, 4G069EC14Y
, 4G069EC15Y
, 4G069FA01
, 4G069FA02
, 4G069FB08
, 4G069FB14
, 4G069FC08
, 4G169AA03
, 4G169AA08
, 4G169BA02A
, 4G169BA02B
, 4G169BA21C
, 4G169BA22C
, 4G169BC68A
, 4G169BC68B
, 4G169BE08C
, 4G169CC04
, 4G169EA01Y
, 4G169EC02X
, 4G169EC02Y
, 4G169EC09X
, 4G169EC09Y
, 4G169EC14Y
, 4G169EC15Y
, 4G169FA01
, 4G169FA02
, 4G169FB08
, 4G169FB14
, 4G169FC08
引用特許: