特許

J-GLOBAL ID：200903055101661380

ポリッシング装置及びその研磨具

発明者： 廣川 一人 ,  檜山 浩國 ,  和田 雄高 ,  松尾 尚典
出願人/特許権者： 株式会社荏原製作所
代理人 (1件)： 渡邉 勇 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-074127
公開番号（公開出願番号）：特開平11-333705
出願日： 1999年03月18日
公開日（公表日）： 1999年12月07日
要約：

【要約】【課題】 砥石がポリッシング時に液体の供給を受けて湿潤状態となっても、その砥石の研磨面の平坦性を維持することができるポリッシング装置及びその研磨具を提供する。【解決手段】 砥石13と、砥石13を支持する台座15と、ポリッシング対象物4を保持する保持部材とを備え、ポリッシング対象物4の被加工面を砥石13の研磨面に押圧しながら摺動することで、被加工面を平坦且つ鏡面状に研磨するポリッシング装置において、砥石13は、台座15に対して湿潤した状態で固定されている。

請求項（抜粋）：

砥石と、該砥石を支持する台座と、ポリッシング対象物を保持する保持部材とを備え、前記ポリッシング対象物の被加工面を前記砥石の研磨面に押圧しながら摺動することで、前記被加工面を平坦且つ鏡面状に研磨するポリッシング装置において、前記砥石は、前記台座に対して湿潤した状態で固定されていることを特徴とするポリッシング装置。

IPC (2件)：

B24B 37/04 ,  H01L 21/304 621

FI (2件)：

B24B 37/04 A ,  H01L 21/304 621 C

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開平2-185374
  
• 基板洗浄用ブラシの保管方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-282555   出願人：大日本スクリーン製造株式会社, 富士通株式会社