特許
J-GLOBAL ID：200903055108619850
処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-325109
公開番号（公開出願番号）：特開平6-177066
出願日： 1992年12月04日
公開日（公表日）： 1994年06月24日
要約：
【要約】【目的】 ロードロック室11内の不活性ガス雰囲気を高純度に維持することができ、不活性ガスの消費量が少なくて済み、且つそのパーテクル発生の抑制並びにケミカルコンタミネーショ防止に大に役立つ、高性能で且つ経済的な処理装置を提供することを目的とする。【構成】 ロードロック室11からプロセスチューブ1内に半導体ウェーハを搬入して所定の処理を施すクローズドシステム構造の縦型熱処理装置で、ロードロック室11内に不活性ガスを供給するガス導入管12と、ロードロック室11内の不活性ガスを導出し且つこの導出ガス中のガス状不純物及び粒子状不純物をガス清浄フィルタ43により除去しながら、その清浄化不活性ガスをロードロック室11に戻すガス循環浄化システム40を具備したことを特徴とする。
請求項（抜粋）：
ロードロック室から処理室内に被処理物を搬入して該被処理物に所定の処理を施す処理装置であって、前記ロードロック室内に不活性ガスを供給して該ロードロック室内の雰囲気ガス圧を適当に維持するガス供給手段と、前記ロードロック室内の不活性ガスを導出し、且つこの導出ガス中のガス状不純物及び粒子状不純物をガス清浄フィルタにより除去しながら、その清浄化不活性ガスを該ロードロック室に戻すガス循環浄化システムと、を具備したことを特徴とする処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/22
, H01L 21/205
, H01L 21/31
