特許
J-GLOBAL ID:200903055183668484

ショットキーダイオード

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小川 勝男
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-242831
公開番号(公開出願番号):特開2000-077682
出願日: 1998年08月28日
公開日(公表日): 2000年03月14日
要約:
【要約】【課題】ショットキーダイオードにおいて、過電圧による素子破壊を防止する。【解決手段】ショットキー障壁形成領域にpn接合を形成し、降伏電圧をpn接合のパンチスルーにより制御するものである。【効果】逆方向の過電圧に対する耐性の優れた高耐圧,大電流のショットキーダイオードが得られる。
請求項(抜粋):
一対の主表面を有する第一導電型の半導体基体と、前記半導体基体の一方の主表面に形成され、前記半導体基体との間にショットキー障壁をなすショットキー金属と、前記ショットキー金属の終端部分において前記ショットキー金属とオーム性接触し、前記半導体基体とpn接合を形成する第二導電型の第一半導体層と、前記半導体基体の他方の主表面において、前記半導体基体にオーム性低抵抗接触するカソード電極と、前記半導体基体の前記一方の主表面において前記ショットキー金属と接触し、前記半導体基体との間にpn接合を形成する第二導電型の複数の第二半導体層と、を有し、前記第二半導体層のpn接合の降伏電圧が他の部分より低いことを特徴とするショットキーダイオード。
Fターム (5件):
4M104CC01 ,  4M104CC03 ,  4M104FF06 ,  4M104FF35 ,  4M104GG03
引用特許:
審査官引用 (1件)
  • 特開昭58-060577

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