特許
J-GLOBAL ID：200903055200601500

シロキサン共沸混合物を用いた二段階の清浄又は脱水法

発明者：
チェリル アン マッコーマック

チェリル アン マッコーマック について

, 
ドゥワイト エドワード ウィリアムス

ドゥワイト エドワード ウィリアムス について


出願人/特許権者：
ダウ・コ-ニング・コ-ポレ-ション

ダウ・コ-ニング・コ-ポレ-ション について


代理人 (1件)： 石田 敬 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-147597
公開番号（公開出願番号）：特開平8-117685
出願日： 1995年06月14日
公開日（公表日）： 1996年05月14日
要約：
【要約】【目的】 オゾン層の破壊やスモッグのような地球環境問題を配慮した、電子デバイス等の洗浄に適するフロン代替用の洗浄剤を提供する。【構成】 表面を清浄する又は脱水する方法であって、(A)揮発性メチルシロキサンと清浄又は脱水を促進する薬剤を含む洗浄用組成物を表面に施し、(B)前記表面が前記洗浄用組成物で未だ濡れているときに、揮発性メチルシロキサンを含む共沸混合物のすすぎ洗い用組成物で前記表面をすすぎ洗いし、(C)前記表面を強制乾燥又は自然乾燥する過程を含んでなる方法。好ましくは、前記共沸混合物はヘキサメチルジシロキサンと、2-ペンタノール、3-メチル-3- ペンタノール、又は1-メトキシ-2- プロパノールを含み、あるいはオクタメチルトリシロキサンと、2-メチル-1- ペンタノール、1-ブトキシ-2- プロパノール、1-ヘキサノール、n-プロポキシプロパノール、又はエチルラクテートを含む。
請求項（抜粋）：
表面を清浄する又は脱水する方法であって、次の過程を含んでなる方法:(A)揮発性メチルシロキサンと清浄又は脱水を促進する薬剤を含む洗浄用組成物を表面に施し、(B)前記表面が前記洗浄用組成物で未だ濡れているときに、揮発性メチルシロキサンを含む共沸混合物又は共沸状混合物のすすぎ洗い用組成物で前記表面をすすぎ洗いし、(C)前記表面を強制乾燥又は自然乾燥する。
IPC (6件)：
B05D 7/24 302 ,  B05D 7/24 301 ,  B05D 7/14 ,  C11D 7/60 ,  C11D 7:26 ,  C11D 7:22
引用特許：
審査官引用 (8件)
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