特許
J-GLOBAL ID：200903055227469425
スペクトル反射率計の光信号の電子空間フィルタリングのための方法および装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人明成国際特許事務所
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-521082
公開番号（公開出願番号）：特表2006-528428
出願日： 2004年06月24日
公開日（公表日）： 2006年12月14日
要約：
【課題】【解決手段】半導体ウエハのプラズマ処理の終点を決定するための方法は、光源を準備する工程と、光源からの光をコリメートして、半導体ウエハの活性面に整列させるためのレンズシステムを準備する工程とを備える。光源からレンズシステムに光を伝達する光源ファイバの間に、複数の光検出器ファイバが介在する。半導体ウエハの活性面からの反射光は、複数の光検出器ファイバによって受信され、画像化分光計に供給される。受信された反射光は、画像化分光計によって解析され、モデル光信号と照合される。照合した光信号は、プラズマ処理の終点またはその他の状態を決定するために選択される。【選択図】図7
請求項（抜粋）：
ウエハの表面のプラズマエッチング動作の終点を決定するための方法であって、前記ウエハの前記表面は、エッチングされている形状を有し、前記方法は、
コリメート光を前記ウエハの前記表面に当てる工程と、
前記ウエハの前記表面からの反射光を検出する工程であって、前記反射光は、不連続な検出領域によって検出され、各検出領域は、周波数帯にわたって固有の信号を示すよう構成されている工程と、
モデル光信号に相関する前記検出領域のうちの1つの検出領域を特定する工程と、
前記検出領域のうちの前記特定された検出領域からのフィードバックに基づいて、前記プラズマエッチング動作の終点を実行する工程であって、前記終点の実行は、前記表面上の前記形状の前記エッチング中に行われる工程と、を備える、方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/302 103
, H01L21/02 Z
5F004CB02
, 5F004CB09
, 5F004CB10
, 5F004CB15
