薄膜の膜厚計測方法及びその装置並びにそれを用いた薄膜デバイスの製造方法及びその装置

発明者： , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：作田康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-121251
公開番号（公開出願番号）：特開2000-310512
出願日： 1999年04月28日
公開日（公表日）： 2000年11月07日
要約：

【要約】【課題】実際の製品の最表面の透明な膜の厚さを、下地のパターンの影響を受けることなく高精度に計測して、高品質な膜厚の管理および、加工のスループットの向上を図る。【解決手段】実際のデバイスパターンでの高精度膜厚計測が可能な膜厚計測ユニットを研磨装置に組み込むことにより、高精度の膜厚計測により高精度の膜厚管理を実現する。および、加工のスループットの向上を実現する。高精度の計測方法として白色光の膜による干渉光の分光波形に対して周波数解析し、波形の含む周波数成分の位相と膜厚の関係から膜厚の絶対値の算出を行う。

請求項（抜粋）：

表面に光学的に透明な薄膜を形成した試料に白色光を照射し、該白色光の照射により前記試料から発生する反射光を検出し、該検出した反射光の分光波形に基づいて前記光学的に透明な膜の膜厚を求めることを特徴とする薄膜の膜厚計測方法。

IPC (5件)：

G01B 11/06 , B24B 37/04 , B24B 49/12 , H01L 21/304 622 , H01L 21/66

FI (5件)：

G01B 11/06 G , B24B 37/04 K , B24B 49/12 , H01L 21/304 622 S , H01L 21/66 P

Fターム (65件)：

2F065AA30 , 2F065BB22 , 2F065CC18 , 2F065CC19 , 2F065CC31 , 2F065DD00 , 2F065FF04 , 2F065FF27 , 2F065FF56 , 2F065GG02 , 2F065GG03 , 2F065GG04 , 2F065GG22 , 2F065GG23 , 2F065GG24 , 2F065JJ02 , 2F065JJ03 , 2F065JJ25 , 2F065JJ26 , 2F065LL22 , 2F065LL30 , 2F065LL42 , 2F065LL46 , 2F065LL67 , 2F065PP22 , 2F065PP24 , 2F065QQ16 , 2F065QQ24 , 2F065QQ25 , 2F065QQ29 , 2F065QQ39 , 2F065QQ44 , 2F065SS03 , 2F065SS13 , 2F065UU05 , 2F065UU07 , 3C034AA13 , 3C034AA17 , 3C034BB93 , 3C034CA03 , 3C034CA22 , 3C034CA30 , 3C034CB13 , 3C034DD20 , 3C058AA07 , 3C058AC02 , 3C058BA07 , 3C058BA09 , 3C058CB01 , 3C058CB03 , 3C058CB10 , 3C058DA12 , 3C058DA17 , 4M106AA01 , 4M106AA20 , 4M106BA04 , 4M106BA05 , 4M106CA48 , 4M106DH03 , 4M106DH12 , 4M106DH31 , 4M106DH32 , 4M106DH37 , 4M106DH57 , 4M106DJ18

引用特許：

審査官引用 (5件)

多層薄膜の膜厚検出方法および装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-089517 出願人：三菱化学株式会社
薄膜の膜厚計測方法及びその装置並びにそれを用いた薄膜デバイスの製造方法及びその製造装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-299311 出願人：株式会社日立製作所
検出方法及び検出装置及び研摩装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-250071 出願人：株式会社ニコン

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