特許

J-GLOBAL ID：200903055260859387

擬ポリロタキサンおよびポリロタキサンならびにそれらの製造方法

発明者： 荒井 隆行 ,  高田 十志和
出願人/特許権者： リンテック株式会社 ,  国立大学法人東京工業大学
代理人 (2件)： 早川 裕司 ,  鈴木 啓靖
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-129017
公開番号（公開出願番号）：特開2007-297570
出願日： 2006年05月08日
公開日（公表日）： 2007年11月15日
要約：

【課題】輪成分の軸分子に対する貫通数を、簡便な手段で正確に制御することのできる擬ポリロタキサンおよびポリロタキサンの製造方法、ならびに輪成分の軸分子に対する貫通数が制御された擬ポリロタキサンおよびポリロタキサンを提供する。【解決手段】シクロデキストリン分子の開口部に、末端に官能基を有し、ポリエチレングリコールとポリプロピレングリコールとの質量比を5:95〜95:5としたポリエチレングリコール-ポリプロピレングリコール共重合体を貫通させ、もって、シクロデキストリン分子のポリエチレングリコール-ポリプロピレングリコール共重合体に対する被覆率を10〜85%とし、次いで、ポリエチレングリコール-ポリプロピレングリコール共重合体の末端官能基と反応し得るブロック基を、その末端官能基と反応させ、ポリロタキサンを得る。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

シクロデキストリン分子の開口部に、ポリエチレングリコール-ポリプロピレングリコールブロック共重合体が貫通してなる擬ポリロタキサンであって、 前記ポリエチレングリコール-ポリプロピレングリコールブロック共重合体におけるポリエチレングリコールとポリプロピレングリコールとの質量比が5:95〜95:5であり、 シクロデキストリン分子の前記ポリエチレングリコール-ポリプロピレングリコールブロック共重合体に対する被覆率が10〜85%である ことを特徴とする擬ポリロタキサン。

IPC (2件)：

C08B 37/16 ,  C08G 65/329

FI (2件)：

C08B37/16 ,  C08G65/329

Fターム (8件)：

4C090AA05 ,  4C090BA11 ,  4C090BD22 ,  4C090CA35 ,  4C090DA06 ,  4C090DA31 ,  4J005AA04 ,  4J005BD00

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 特許第3475252号公報
  
• 特許第3288149号公報
  

引用文献：

審査官引用 (2件)

• "Nanostructures Based on Poly(alkylene oxide)-Cyclodextrin Complexes"
• "Thermally Induced Localization of Cyclodextrins in a Polyrotaxane Consisting of β-Cyclodextrins an