特許
J-GLOBAL ID：200903055396864880

酸素ラジカル含有カルシウムアルミネート膜の製造方法と積層体

発明者：
川崎 卓

川崎 卓 について

, 
伊藤 和弘

伊藤 和弘 について

, 
伊吹山 正浩

伊吹山 正浩 について


出願人/特許権者：
電気化学工業株式会社

電気化学工業株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-298139
公開番号（公開出願番号）：特開2004-244303
出願日： 2003年08月22日
公開日（公表日）： 2004年09月02日
要約：
【課題】高濃度に酸素ラジカルを含有するC12A7を安価に提供する。【解決手段】酸素ラジカル含有カルシウムアルミネート粉末を用いて溶射することを特徴とする酸素ラジカル含有カルシウムアルミネート膜の製造方法であり、好ましくは、酸素ラジカル含有カルシウムアルミネート粉末の酸素ラジカル含有量が1020cm-3以上であることを特徴とする。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
酸素ラジカル含有カルシウムアルミネート膜の製造方法であって、酸素ラジカル含有カルシウムアルミネート粉末を用いて溶射することを特徴とする酸素ラジカル含有カルシウムアルミネート膜の製造方法。
IPC (3件)：
C01F7/16 ,  B32B9/00 ,  C04B41/87
FI (3件)：
C01F7/16 ,  B32B9/00 A ,  C04B41/87 K
Fターム (14件)：
4F100AA27A ,  4F100AA33B ,  4F100AT00A ,  4F100BA02 ,  4F100EH56B ,  4F100EJ48A ,  4F100JL08 ,  4G076AA02 ,  4G076AA18 ,  4G076AB02 ,  4G076BA03 ,  4G076CA10 ,  4G076DA01 ,  5H026EE13
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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引用文献：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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