特許
J-GLOBAL ID：200903055408923233

架橋高分子固体電解質およびその製造方法

発明者：
内山 隆司

内山 隆司 について


出願人/特許権者：
クレハエラストマー株式会社

クレハエラストマー株式会社 について


代理人 (1件)： 和気 操
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-154199
公開番号（公開出願番号）：特開2009-301833
出願日： 2008年06月12日
公開日（公表日）： 2009年12月24日
要約：
【課題】機械的強度を維持または向上させることができるとともに、高いイオン伝導性を付与することができる。【解決手段】固体電解質塩および共架橋剤を含むポリアルキレンオキサイドを電子線照射により架橋処理してなり、共架橋剤は、ポリアルキレンオキサイドよりも重量平均分子量が小さい下記式(1)で表されるポリアルキレングリコール(メタ)アクリレートである。 R1は水素原子またはメチル基を表し、R2は炭素数2〜4の2価の炭化水素基を表し、nは1〜23の整数を表す。【選択図】図7
請求項（抜粋）：
固体電解質塩および共架橋剤を含むポリアルキレンオキサイドを電子線照射により架橋処理してなる架橋高分子固体電解質であって、 前記共架橋剤は、前記ポリアルキレンオキサイドよりも重量平均分子量が小さいポリアルキレングリコール(メタ)アクリレートであることを特徴とする架橋高分子固体電解質。
IPC (3件)：
H01B 1/06 ,  H01B 13/00 ,  C08F 283/06
FI (3件)：
H01B1/06 A ,  H01B13/00 Z ,  C08F283/06
Fターム (18件)：
4J026AB19 ,  4J026AB20 ,  4J026AB21 ,  4J026BA50 ,  4J026DB06 ,  4J026DB09 ,  4J026DB36 ,  4J026GA01 ,  4J026GA10 ,  5G301CD01 ,  5G301CE01 ,  5H029AJ06 ,  5H029AJ11 ,  5H029AM02 ,  5H029AM07 ,  5H029AM16 ,  5H029HJ02 ,  5H029HJ13
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (7件)
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