結晶成長装置および結晶プロセス装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：若林忠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-264180
公開番号（公開出願番号）：特開平9-106950
出願日： 1995年10月12日
公開日（公表日）： 1997年04月22日
要約：

【要約】【課題】結晶成長装置または結晶プロセス装置の内壁やのぞき窓等に、供給原料ガスや供給原料ガスの反応生成物が付着し、のぞき窓等の機能を低下させるほか、結晶成長時に内壁、のぞき窓から離脱して基板に付着することにより成長結晶の品質を著しく損なうことを防止し、また付着物の清掃取り除きを容易にする。【解決手段】装置の内壁やのぞき窓等の表面の必要部分を、供給原料または供給原料の反応生成物の付着を防止することができる被膜例えばテフロン薄膜で覆い、さらにのぞき窓部には付着した生成物を拭き去るための装置を設ける。

請求項（抜粋）：

結晶成長装置または結晶プロセス装置において、装置の内壁のほか、装置の内壁に設けられ、または装置の内壁と通じる器具または付属装置であって、装置への供給原料ガス、または原料ガスの反応生成物と触れる内壁、器具または付属装置の少なくとも1部が、少なくとも部分的に、原料ガスまたは原料ガスの反応生成物の付着を防止することができる被膜で覆われていることを特徴とする結晶成長装置または結晶プロセス装置。

IPC (4件)：

H01L 21/203 , C30B 23/08 , H01L 21/205 , H01L 21/285

FI (4件)：

H01L 21/203 M , C30B 23/08 M , H01L 21/205 , H01L 21/285 C

引用特許：

審査官引用 (6件)

特開昭63-177412
特開平4-354120
特開昭63-114116

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