特許
J-GLOBAL ID：200903055461904879
電子放出素子、電子源及び画像形成装置の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
渡辺 敬介 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-210306
公開番号（公開出願番号）：特開平11-054038
出願日： 1997年08月05日
公開日（公表日）： 1999年02月26日
要約：
【要約】【課題】 高品位な画像を形成し得る画像形成装置の電子ビーム源として応用される、均一な電子放出特性を長時間実現する電子放出素子の製造方法を提供する。【解決手段】 基体1上の素子電極2,3間に跨がる導電性膜4に電子放出部5を形成するフォーミング工程、有機物質が存在する雰囲気下で素子電極2,3間に電圧を印加する活性化工程を有する電子放出素子の製造方法において、気密容器内に配した電子放出素子とアノード電極との間に電圧を印加してプラズマを発生させて行うプラズマ洗浄工程を、フォーミング工程の前若しくは後、活性化工程の後、のいずれか一以上の期間に行うことを特徴とする。
請求項（抜粋）：
基体上に形成された一対の素子電極と、該素子電極に接続された、電子放出部を含む導電性膜とを有する電子放出素子の製造方法であって、(a)基体上に上記素子電極と導電性膜を形成する工程(b)上記導電性膜に電子放出部を形成するフォーミング工程(c)有機物質が存在する雰囲気下で、上記一対の素子電極間に電圧を印加する活性化工程を少なくとも有する電子放出素子の製造方法において、アノード電極の設置された気密容器内に上記電子放出素子を設置し、該気密容器内にガスを導入し、該電子放出素子とアノード電極間に電圧を印加してプラズマを発生させた後、気密容器内を排気する、プラズマ洗浄工程を、上記工程(b)の前、工程(b)と工程(c)の間、工程(c)の後、のいずれか一以上の期間に行うことを特徴とする、電子放出素子の製造方法。
IPC (3件)：
H01J 9/39
, H01J 9/02
, H01J 31/12
H01J 9/39 A
, H01J 9/02 E
, H01J 31/12 C
