特許

J-GLOBAL ID：200903055484958690

スピロビインダン誘導体およびそれを含有するレジスト材料

発明者： 元島 敏博 ,  唐澤 昭夫 ,  詫摩 啓輔
出願人/特許権者： 三井東圧化学株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-325444
公開番号（公開出願番号）：特開平8-176051
出願日： 1994年12月27日
公開日（公表日）： 1996年07月09日
要約：

【要約】【構成】 式(1)で表されるスピロビインダン誘導体、および溶解阻害剤として該誘導体を含有するポジ型レジスト材料。(式中、R1 は酸性条件下で容易に脱離可能な保護基を表し、R2 は水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ニトロ基またはハロゲン原子を表し、mは1または2を表し、nは1〜3の整数を表す)【効果】 感度および解像度の優れた高エネルギー線用ポジ型レジスト材料を提供する。

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)(化1)で表されるスピロビインダン誘導体。【化1】(式中、R1 は酸性条件下で容易に脱離可能な保護基を表し、R2 は水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ニトロ基またはハロゲン原子を表し、mは1または2を表し、nは1〜3の整数を表す)

IPC (9件)：

C07C 43/21 ,  C07C 69/24 ,  C07C 69/712 ,  C07C 69/96 ,  C07D309/12 ,  C07F 7/18 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (10件)

• 感熱記録材料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-002776   出願人：三井東圧化学株式会社
• 特開平4-298743
  
• 特開平3-048845
  
• 特開平2-139544
  
• 特開昭61-282840
  
• パターン形成用レジストおよびパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-100310   出願人：株式会社東芝
• 特開平4-298743
  
• 特開平3-048845
  
• 特開平2-139544
  
• 特開昭61-282840