特許
J-GLOBAL ID:200903055493479126
ガスバリア性成形体、塗液および塗液を用いたガスバリア性成形体の製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
鈴木 俊一郎
, 牧村 浩次
, 八本 佳子
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-079593
公開番号(公開出願番号):特開2008-238475
出願日: 2007年03月26日
公開日(公表日): 2008年10月09日
要約:
【課題】基材とガスバリア層との剥離強度が高く、ガスバリア性に優れるガスバリア性成形体、およびレトルト処理を行わず、簡便な工程で行うことが可能なガスバリア性成形体の製造方法、並びに該製造方法に用いる塗液を提供すること。【解決手段】基材(X)と、基材(X)上に形成されたガスバリア層(Y)とを有する成形体であり、該ガスバリア層(Y)が、多価金属イオン(C)によって部分中和されたポリカルボン酸系重合体(A)と、カルボキシル基と反応する基を有する架橋剤(B)とから形成された層であり、該基材(X)とガスバリア層(Y)との剥離強度が2[N/cm]以上であり、温度30°C、相対湿度80%の条件下で測定した成形体の酸素透過度が、50×10-4cm3(STP)/(m2・s・MPa)以下であるガスバリア性成形体。【選択図】なし
請求項(抜粋):
基材(X)と、
基材(X)上に形成されたガスバリア層(Y)とを有する成形体であり、
該ガスバリア層(Y)が、
多価金属イオン(C)によって部分中和されたポリカルボン酸系重合体(A)と、
カルボキシル基と反応する基を有する架橋剤(B)とから形成された層であり、
該基材(X)とガスバリア層(Y)との剥離強度が2[N/cm]以上であり、
温度30°C、相対湿度80%の条件下で測定した成形体の酸素透過度が、50×10-4cm3(STP)/(m2・s・MPa)以下であるガスバリア性成形体。
IPC (7件):
B32B 27/30
, B32B 27/00
, B05D 5/00
, C09D 133/02
, C09D 7/12
, C09D 143/00
, C08J 7/04
FI (7件):
B32B27/30 A
, B32B27/00 B
, B05D5/00 Z
, C09D133/02
, C09D7/12
, C09D143/00
, C08J7/04 P
Fターム (81件):
4D075BB26Z
, 4D075BB41Z
, 4D075BB93Z
, 4D075BB95Z
, 4D075CA42
, 4D075DA04
, 4D075DB31
, 4D075DC36
, 4D075EB22
, 4D075EB32
, 4D075EB33
, 4D075EB38
, 4D075EB39
, 4D075EB56
, 4D075EC02
, 4D075EC37
, 4F006AA12
, 4F006AA35
, 4F006AA38
, 4F006AB03
, 4F006AB20
, 4F006AB24
, 4F006AB42
, 4F006AB43
, 4F006AB55
, 4F006AB64
, 4F006AB74
, 4F006BA05
, 4F006CA07
, 4F006DA04
, 4F006EA03
, 4F006EA05
, 4F100AA02B
, 4F100AA18B
, 4F100AA19B
, 4F100AA20B
, 4F100AA21B
, 4F100AA23B
, 4F100AA24B
, 4F100AA25B
, 4F100AA26B
, 4F100AA27B
, 4F100AA30B
, 4F100AH02
, 4F100AH03
, 4F100AH06
, 4F100AJ07
, 4F100AK01B
, 4F100AK07
, 4F100AK21
, 4F100AK24B
, 4F100AK25
, 4F100AK42
, 4F100AK48
, 4F100AL01B
, 4F100AR00B
, 4F100AT00A
, 4F100AT00C
, 4F100BA02
, 4F100BA03
, 4F100BA07
, 4F100BA10A
, 4F100BA10C
, 4F100CA02B
, 4F100CB01
, 4F100DA02
, 4F100EH46B
, 4F100EJ05B
, 4F100EJ42B
, 4F100EJ53B
, 4F100EJ54B
, 4F100GB17
, 4F100GB32
, 4F100JD02B
, 4F100JK06
, 4J038CG031
, 4J038CG051
, 4J038CL001
, 4J038KA03
, 4J038NA08
, 4J038PA19
引用特許:
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