特許
J-GLOBAL ID：200903055516465756

ウェット処理装置

発明者：
山下 幸福

山下 幸福 について

, 
今岡 孝之

今岡 孝之 について

, 
山中 弘次

山中 弘次 について


出願人/特許権者：
オルガノ株式会社

オルガノ株式会社 について


代理人 (1件)： 細井 勇
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-343828
公開番号（公開出願番号）：特開平10-225664
出願日： 1997年11月28日
公開日（公表日）： 1998年08月25日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 洗浄液中の洗浄機能ガスの溶解量の変化を迅速に検知して洗浄機能ガスの溶解量を制御し、また洗浄中の超音波照射量を制御し、さらに脱ガス装置における不純物ガスの脱気度を制御して洗浄効果を一定に保持できるウェット処理装置を提供する。【解決手段】 ウェット処理装置は、超純水又は脱気した超純水に洗浄機能ガスを溶解した洗浄液を導入して被洗浄物5の洗浄を行うための超音波洗浄槽4に音圧計7を設けたもので、音圧の測定結果を信号処理して制御ユニット10によって超音波発生装置6からの超音波照射量を制御したり、ガス溶解装置3における超純水中へのガス溶解量を制御したり、脱ガス装置2における不純物ガスの脱気度を制御できるように構成されている。
請求項（抜粋）：
超純水又は脱気した超純水に洗浄機能ガスを溶解してなる洗浄液を導入して被洗浄物の洗浄を行うための超音波洗浄槽に音圧計を設けたことを特徴とするウェット処理装置。
IPC (4件)：
B08B 3/12 ,  B08B 3/08 ,  H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304
FI (4件)：
B08B 3/12 A ,  B08B 3/08 Z ,  H01L 21/304 341 S ,  H01L 21/304 341 T
引用特許：
審査官引用 (4件)
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